产品新闻|2017年9月25日
新的Turbodisc EPIK 868 MOCVD系统超越了EPIK 700，作为业内最富有成效和成本效益的工具
Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：Veco）今天宣布它已将多个TurboDisc®Pepik®868镓（GaN）金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统发布到几个领先的中国LED制造商，用于生产发光二极管（LED）对于固态照明应用。
与之前的几代相比，EPIK 868 MOCVD系统通过最佳操作正常运行时间，低维护成本和最佳晶圆均匀性的组合优势，每晶圆节省的成本高于20％以上。此外，该系统的紧凑型架构具有业界最佳的高批量LED生产占用效率。
威廉J. Miller，Ph.D.总裁Veeco评论，威廉J. Miller，Ph.D.总裁Veeco评论说：“普遍展示了Veeco对这一重要地区的长期承诺。”“随着EPIK 868，我们的中国客户可以继续利用Veeco的领先优势技术开发和世界级服务产品，以实现较低的所有权成本。”
基于Veeco的经过验证的Turbodisc技术，新开发的EPIK 868 MOCVD系统为客户提供了一个四抗体平台，可获得最高的生产力和35％的占用占据竞争相比的35％。此外，可以增加晶片载体容量，以便每个批次的吞吐量更大。
“EPIK 868建造在生产经过验证的Turbodisc平台上，拥有全球的一千个房间，为客户提供最高的操作稳定性和效率，”威尔科高级副总裁兼总经理Ph.D。操作。“新的EPIK 868系统不仅可以提高客户的生产力和所有权成本，而且还将提供来自MOCVD技术世界领导者的高度可靠的领先生产工具。”
关于Turbodisc Epik 868 GaN Mocvd系统
Veeco的新EPIK 868 MOCVD系统是LED行业的最高生产力MOCVD系统，与之前的几代相比，每晶圆的成本降低超过20％。EPIK 868采用四堆电抗器配置，具有突破性技术，包括专有的ISOflange™和TRUHEAT™技术，可在整个晶片载体上提供均匀的层流式流动和均匀的温度曲线。这些技术创新产生波长均匀性，以推动更高的收益率。由于其4室配置和提高晶圆载体容量的能力，EPIK 868系统将通过EPIK 700系统提供2.3倍的吞吐量优势。客户可以轻松地将现有TurboDisc系统从现有的TurboDisc系统转移到新的EPIK 868 MOCVD平台，以便快速生产高质量LED。
关于Veeco.
Veeco（纳斯达克：Veco）是一家创新半导体工艺设备的领先制造商。我们经过验证的MOCVD，光刻，激光退火，离子束和单晶片蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示器的LED方面以及高级半导体器件的制造中起作用的积分作用。凭借旨在最大限度地提高业绩，产量和所有权成本的设备，Veeco在所有这些送达市场中占据了技术领导职位。vwin官方网站要了解有关Veeco的创新设备和服务的更多信息，请访问www.theljp.com。
在此新闻发布讨论期望或以其他方面发表对未来的陈述的范围内，此类陈述是前瞻性的，受到许多风险和不确定性的影响，可能导致实际结果与所做的陈述有所不同。These factors include the risks discussed in the Business Description and Management’s Discussion and Analysis sections of Veeco’s Annual Report on Form 10-K for the year ended December 31, 2016 and in our subsequent quarterly reports on Form 10-Q, current reports on Form 8-K and press releases. Veeco does not undertake any obligation to update any forward-looking statements to reflect future events or circumstances after the date of such statements.
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资料来源：Veeco Instruments Inc.