栅格的RF离子源

VEECO的网格RF离子源设计用于改善长期离子束沉积过程的产生。

栅格的RF离子源

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Novus RF离子源控制器

使用Veeco的Novus RF LON源控制器获得离子源操作的稳定功率，该控制器具有最先进的精度控制…
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6厘米x 22厘米RF离子源

Veeco的6 x 22厘米网格线性RF离子源专为具有基材高生产性的在线系统而设计，是理想的……
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6厘米x 66厘米RF离子源

Veeco的6 x 66厘米RF线性离子源可提供大规模底物的均匀处理，可提供低维护，无丝操作…
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16厘米高功率RF离子来源

VEECO的16厘米RF HP离子源可用于反应性过程，可提供光束均匀性
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16厘米RF离子源

获取一个宽均匀的离子束源，以进行反应性过程，例如离子束辅助或离子束沉积…
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12厘米RF离子源

提高长期不间断的反应过程的性能和质量，例如离子束辅助或离子束沉积…
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