Veeco赢得复合半导体产业创新奖

产品新闻|2018年4月11日

灵活的Genxcel™MBE沉积系统在七年内赢得其第四次创新奖

Plainview，N.Y.，2018年4月11日-VeCo Instruments Inc.（纳斯达克：Veco）今天宣布其Genxcel R＆D分子束外延（MBE）系统赢得了2018复合半导体（CS）行业创新奖。由复合半导体杂志举办，CS行业奖颁奖典礼庆祝公司跨五大类公司的成功。具体而言，创新奖荣誉在过去12个月内批讨了复合半导体制造中最重要的突破。

“我们很荣幸能够拥有复合半导体和我们的行业同龄人认可的Genxcel MBE系统。认可尤其有意义，因为我们尊重的同事，客户和合作者投票赞成赢家，“MBE和ALD产品总经理Gerry Blumenstock说，veeco副总裁Gerry Blumenstock说。“我们继续致力于创造最先进和最高质量的工具，以支持领先的复合半导体研发和生产。”

这Genxcel R＆D MBE系统建立了为复合半导体研发和试点生产市场设计的Genxplor®MBE系统的成功。vwin官方网站该系统在直径高达100mm的基板上产生高质量的外延层。与类似的100mm晶圆系相比，Genxcel的创新架构概念将系统占用脚印减少了40％，提高了维护的易于维护，并允许用户轻松整合额外的沉积和分析室 - 特别是Veeco的新原子层沉积（ALD）产品系列。

CS行业奖是一项同行投票奖计划，荣誉复合半导体行业内的人员，流程和产品。获奖者于4月10日在比利时布鲁塞尔CS国际会议上享有仪式。有关2018年获奖者的完整列表，请访问www.csawards.net/winners。

赢得了CS行业创新奖的以前的Veeco产品包括Turbodisc®Pepik700™镓氮化氮（GaN）金属有机化学气相沉积（MoCVD）系统，2014年GenXplor MBE系统，以及Turbodisc®MaxBright®多抗反醇MOCVD System in 2012. To learn more about Veeco’s GENxcel R&D MBE system, please visit //www.theljp.com/products/genxcel-randd-mbe-system.

关于Veeco.

Veeco（纳斯达克：Veco）是一家创新半导体工艺设备的领先制造商。我们经过验证的MOCVD，光刻，激光退火，离子束和单晶片蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示器的LED方面以及高级半导体器件的制造中起作用的积分作用。凭借旨在最大限度地提高业绩，产量和所有权成本的设备，Veeco在所有这些送达市场中占据了技术领导职位。vwin官方网站要了解有关Veeco的创新设备和服务的更多信息，请访问www.theljp.com。

#####

媒体联系方式：

大卫派托

408-325-6157

dpinto@veeco.com.

投资者关系联系方式：

Anthony Bencivenga.

516-677-0200 x1308

Investorrelations@veeco.com.