封装

封装

Al2O3 / ZrO2纳米层压膜用于OLEDS REF：Meyer，J.等人。Appl Phys Lett 94,233305（2009）。

封装和屏障层是ALD最引人注目的成功案例之一，现在用于生产以满足OLED或柔性电子等严格的应用。ALD可以提供独特的密集小孔膜，使其成为获得高质量超薄防潮层和抗氧化膜的选择。用原子水平厚度控制沉积纳米胺膜的能力使得能够在1E-6 G / M2 /天低于1E-6 G / M2 /天的水传输速率实现优异的渗透性能，而ALD卓越的集合即使在复杂的3D纳米和微结构上也能提供完全覆盖，使其非常适合MEMS / NEMS应用。还可以调整薄膜性能，以确保它仍然是光学透明和清晰的眼睛，使其吸引贵重金属和伪影。

薄膜封装

Veeco Cambridge Nanotech一直处于用于封装和屏障层的ALD薄膜的最前沿。来自Carcia和Meyer的开创性作品在Savannah®Ald平台上已经证明了ALD的潜力，以满足最严格的封装要求，以低于1E-6G / M2 /天的水传输速率。我们的科学家在沉积的MLD（分子层沉积）在无机氧化物基质中整合有机层或锆酮沉积的混合有机/无机薄膜的发展经验多年的经验。这种混合材料可以提供更柔韧的薄膜，同时仍然确保优异的不渗透性。

这些薄膜的低热预算和超薄性质已经证明是最严格的应用，例如OLED或柔性电子应用在诸如笔或宠物的有机基板上。

ALD的封装还可以在金属上提供优异的氧化屏障，并且已成功用于保护硬币，伪影和其他氧化敏感材料。

ALD封装的益处

  • 原子厚度控制和整合
    即使在复杂的3D纳米结构上，具有优异的均匀性和整体性沉积亚μm纳米烷基氧化物
  • 无密集的无孔膜
    在1E-6 G / M2 /天中达到WVTR的薄膜
  • 热预算低
    ALD薄膜可存放在100˚C以下适用于有机电子应用
  • 生产准备
    您在研发中开发的电影易于生产

ALD薄膜可以提供最佳的水分屏障薄膜，以满足最严格的应用，例如低于1E-6g / m 2 /天的水蒸气透射率的OLED，用于薄于50nm。

参考：高级材料2009,21,1845-1849

MEMS和OLED包装需要先进的薄膜屏障。ALD可以提供超薄封装，具有出色的巧妙和厚度控制，使其成为柔性电子产品的选择。

ALD能够沉积多组分纳米胺氧化物，将Al 2 O 3优异的水分阻隔性能与替代氧化物如HFO2，ZrO2或SiO 2中的替代氧化物如含水环境中的抗腐蚀性能结合起来。

纳米胺氧化物在80˚C中沉积在Savannah®中，作为低成本OLED的封装。

  1. Meyer，J.等人。（2009）应用物理信件，94（23），233305
  2. Meyer，J.等人。（2009）先进材料，21（18），1845-1849

层厚度对水蒸气透射率（WVTR）的影响。3.2E-4 G / M2 /天的WVTR在80℃下为40nm薄膜，对应于室温下的8.7e-7g / m 2 /天。

参考：Meyer，J.，等。应用物理信件，96,243308（2010）。

ALD的封装可以在广泛的应用中使用。在上面的示例中，HFO2用于保护基于2D MOS2的传感器，同时保持器件记录响应性和灵敏度。

参考：Kufer，D.＆Konstantatos，G ..纳米Lett 15,7307-7313（2015）。

ALD是在贵金属和文物上提供具有成本效益的抗褪色涂料的理想选择。这种技术可以很容易地扩大，以满足您在经济效益的解决方案中的生产要求。

将7-10nm Al 2 O 3 / ZrO2纳米烷沉积在GaAs光致发光纳米菌探针上。该装置用于探测单个电池，并且ALD纳米烷基酸盐可防止水性介质中的光诱导氧化而不改变装置响应。

Shambat，G.等人。单细胞光子纳米胶质探针。Nano Lett 130206113907001（2013）

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参考文献 - 在Veeco CNT ALD平台上完成最近的出版物

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