自组装单层（Sams）
Savannah®Sams套件选项可通过在气相中通过自组装沉积多种有机单层。由于SAMS沉积在气相中的自动性质，即使在更严格的3D纳米结构上，SAMS薄膜也高度保形和均匀。另外，完全组装的单层可以在几分钟内实现，而不是在液相中的24-48小时内实现。结合原位诊断（QCM，椭圆测量）和ALD能力，这代表了一种优异的研发解决方案，可存放各种有机/无机薄膜。
气相沉积的Sams
自组装单层的气相沉积代表了一种通用和低成本的溶液，以快速挥发各种表面，包括金属，氧化物，聚合物和纺织品。通过低热预算过程（<100°C），可以在原子标度下定制表面性能，以实现最佳性能，包括控制润湿性（疏水性，亲水性），粘附和沉默，电气，化学和生化特性，以命名几个。SAM还提供理想的载体锚定纳米粒子，生物分子或用作种子层。它们也已成功用于选择性区域沉积。
通过气相沉积，可以在5-10分钟内均匀地沉积稳定的单层。包括在MEMS和NEM中遇到的复杂3D微型和纳米结构。这种干燥的真空工艺可确保样品清洁度和与我们的ALD工艺集成，使研究人员通过杂种有机/无机合成来调整表面性质。
可以沉积多种SAMS薄膜，包括硅烷，硫醇和膦酸。
SAMS应用程序
- 选择性区域ALD的抑制层
- 有机薄膜晶体管
- 柔性电子器件的渗透涂层
- 纳米结构官能化
- 对mems的反沉静
- 生物传感/细胞粘附/蛋白质吸附
- 用于润湿性/渗透性控制的大表面积涂层
SAMS选项可实现各种表面的快速功能，以控制润湿性。这里，在10min暴露后，用FDT涂层官能化的硅表面官能化，导致115°的水接触角。
119˚与铝种子层FDT的水接触角
SAMS套件选项可以精确控制SAM的剂量，以实现最佳性能和再现性
使用气相沉积的SAM提供快速和多功能的方法来选择性地沉积ALD薄膜。在以下实施例中，我们在铜对SiO 2上选择性地沉积C18 Sam，随后抑制氮化铪的ALD生长，但不依赖于SiO 2。这项工作是与IMEC的Silvia Armini的研究小组合作的一部分。
Sams套件规格
| 系统 | Savannah®S100,200和300 |
| 最大限度。＃套件/工具 | 最多2个 |
| 基板尺寸 | S300可达300毫米 |
| 典型的运行时间 | 5-20分钟 |
| 剂量控制 | ±0.5μmol. |
| 前体温 | 高达200˚C. |
| 蓄能器温度 | 100˚C压力表 高达150˚C（W / O仪表） |
| 剂量压力范围 | 0-10与巴拉吞的托尔 |
| 共同反应 | H2O，臭氧，空气 |
| 种子层 | 氧化铝和金属 |
| 泵 | Adixen 2021C2带净化套件 |
| 软态。一体化， 终点控制 |
以标准实施 Savannah®软件 |
| FDT接触角 | >110㎡. |
| 飞行角度 | > 105岁 |
| DTS角度 | > 100岁 |
