ALD概述

ALD概述

涂料的最终精度和均匀性

原子层沉积(ALD)提供了精确的控制,直至原子量表。

原子层沉积在各种各样的行业中都有巨大的希望,包括能源,光学,电子,纳米结构,生物医学等。请查看我们的申请部分有关所有这些领域的更多详细信息。

原子层沉积原理类似于化学蒸气沉积(CVD),除了ALD反应将CVD反应分解为两个半反应,使前体材料在反应过程中分离。

这是通过特殊前体蒸气的顺序脉冲来实现的,每个脉冲在每个脉冲(反应循环)中每种蒸气都会形成一个原子层。然后重复反应循环,直到达到所需的膜厚度,而同时引入多种前体材料的化学蒸气沉积。

我们的原子层沉积系统(Savannah®,fiji®Phoenix®Firebird™)设计用于沉积厚度完全均匀的无针孔涂料,甚至在毛孔,沟渠和腔内深处。

将这种高质量薄膜沉积在具有超高纵横比的底物上的能力是我们原子层沉积系统的关键特征。

可以使用气体,液体或固体前体沉积多种薄膜。

请查看我们通常使用的材料列表ALD材料部分。

联系我们如果您有兴趣了解我们如何在使其可访问并在研究人员的财务范围内简化ALD。

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