产品新闻|2014年4月2日
Genxplor R＆D MBE系统识别突破性创新
Plainview，N.Y .-（Business Wire）-apr。2,2014- Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：veco）今天宣布它Genxplor™R＆D分子束外延（MBE）系统在过去12个月内赢得了复合半导体制造中最大突破的复合半导体（CS）行业。
“这CS行业奖项识别赢得同行批准的公司，“大院史蒂文森，编辑，复合半导体杂志。“我相信许多读者投票赞成了GenXplor，因为他们了解大学研究人员正在寻找一个强大，相对较小的工具，并且能够尽可能快速地进行他们的研究。”
GenXplor是一种完全集成的沉积系统，其在直径上产生高达3“的基板上的高质量外延层，是在包括GaAs，氮化物和氧化物的各种材料上切削刃的理想选择。其高效的单帧设计使其比其他MBE系统小40％，节省了宝贵的实验室空间并减少了安装时间。GenXPLOR的开放式架构设计也提高了易用性，可方便地访问流入电池，而与其他MBE系统相比，可以更轻松的可维护性。
这是三年的第二次，Veeco赢得了这一奖项。Turbodisc®MaxBright®多反应器金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统于2012年颁发了复合半导体制造奖，以实现复合半导体设备的最大突破。
“我们很荣幸能够获得GenXPLOR的CS制造奖，这是在复合半导体类别中识别的第一家MBE系统，”Veeco的MBE运营总经理副总裁Jim Northup评论道。“自2013年介绍以来，GenXplor迅速成为领先的研究型大学和机构的研发系统。”
关于Genxplor R＆D MBE系统
Veeco的GenXplor采用了一款有效的单帧设计，将所有真空硬件与板载电子设备相结合，使其比其他MBE系统小40％，节省了宝贵的实验室空间。由于手动系统集成在单帧上，因此降低了安装时间。GenXPLOR的开放式架构设计还提高了易用性，可方便地进入积液电池，并且与其他MBE系统相比，可以更轻松的可维护性。当加上Veeco最近引入的可伸缩源时，Genxplor系统代表了氧化物材料研究的最先进。
关于Veeco.
Veeco的工艺设备解决方案使得LED，柔性OLED，电力电子，硬盘驱动器，MEMS和无线芯片制造。我们是LED，MBE，离子束等先进薄膜工艺技术的市场领导者。我们的高性能系统推动了能源效率，消费电子和网络存储的创新，并让我们的客户最大限度地提高了生产率并实现了更低的所有权成本。有关我们公司，产品和全球服务和支持的信息，请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com.。
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资料来源：Veeco Instruments Inc.
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