产品新闻|2017年7月17日
北卡罗来纳州立大学获得里程碑装运加强行业对Veeco CNT进行ALD技术研发的依赖
2017年ALD会议（展位＃23）丹佛（2017年7月17日）-Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：Veco）今天宣布，前身称为UltraTech / Cambridge Nanotech，其500个原子层沉积（ALD）系统北卡罗来纳州立大学。Veeco CNTFIJI®G2TMALD系统将使大学能够为下一代电子设备进行各种研究应用，包括高性能可穿戴设备和传感器。
“Veeco CNT Fiji G2 ALD系统将是一个关键的工具，以满足我们雄心勃勃的研究目标，”北卡罗来纳州立大学NSF NERC Assist Centre教授博成，博士李·佩恩·李，博士说。“该ALD工具可以在我们的高性能CMOS，非易失性存储器，下一代宽带隙功率器件和环境和生理传感器进行研究进展。我们选择了Veeco CNT Fiji G2，以证明可靠地存放最具挑战性氧化物和氮化物薄膜的能力。我们很高兴成为收到500个系统的这个里程碑的一部分，我们继续与Veeco CNT建立强有力的关系。“
Veeco CNT FIJI G2 ALD系统是一种先进的薄膜下一代ALD系统，能够在模块化，高真空，柔性架构中进行热和等离子体增强沉积，该架构使用多种前体配置和等离子体气体。系统的直观界面可以轻松监控和更改客户要求的食谱和流程。
“我们的500个ALD系统发货验证了对ALD技术的越来越令人越来越令人兴趣，”威尔科副总裁博士Sundaram说，Ph.D.Veeco CNT。“现在，随着Veeco的支持，我们将继续我们的遗留遗留来构建和提升ALD技术的部署，帮助北卡罗来纳州立大学等客户开发下一代电子设备。”
2017年5月26日，Veeco获得了UltraTech，Inc。，是光刻，激光加工，检查和原子层沉积（ALD）系统的领先供应商。在过去的15年里，Veeco CNT已成为广泛的大学研发和商业应用的ALD系统领先提供商，包括生物医学，电子，能量和光学。
Veeco CNT是第17届国际原子层沉积国际会议（2017年）的铂金赞助商，于2017年7月15日至18日在科罗拉多州丹佛发生。UltraTech-CNT将在展位＃23中展出，以及提出论文：
AS-SUA5使用单个ALD / SAMS平台，Laurent Lecordier，UltraTech开发铜vs低k（和氧化物）高ALD选择性的全晶圆级方法;S. Armini，S. Herregods，IMEC，比利时
aa-sup51透明ALD薄膜堆叠的金属表面的颜色修改，Ritwik Bhatia，A.Bertuch，UltraTech
AF-MOP24通过干涉测量测量的ALD薄膜和纳米层压板应力的测量和控制，Ritwik Bhatia，UltraTech
EM-MOP12.使用光谱椭圆形测定法的薄膜钼碳化薄膜的原位特征，UltiTuch;J. Hoglund，Semilab;L. Makai，Semilab;J. Byrnes，Semilab;J. McBee，G. Sundaram，UltraTech
AA1-TUA13紫外线，Mark Sowa，UltraTech的等离子体增强原子层沉积的机械，物理和电性能;N. Strandwitz，L.Ju，Lhigh大学;A. Kozen，美国海军研究实验室;B.克里克，Lehigh大学
关于Veeco.
Veeco（纳斯达克：Veco）是一家创新半导体工艺设备的领先制造商。我们经过验证的MOCVD，光刻，激光退火，离子束和单晶片蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示器的LED方面以及高级半导体器件的制造中起作用的积分作用。凭借旨在最大限度地提高业绩，产量和所有权成本的设备，Veeco在所有这些送达市场中占据了技术领导职位。vwin官方网站了解有关Veeco的创新设备和服务，请访问www.theljp.com.。
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