VEECO宣布与IMEC合作,使用Single Wafer Propel™技术在基于GAN的电力设备中提高性能提高

VEECO宣布与IMEC合作,使用Single Wafer Propel™技术在基于GAN的电力设备中提高性能提高

产品新闻|2016年2月16日

Veeco的单个晶圆MOCVD用于加快gan外延层改进的系统

Plainview, N.Y., February 16, 2016 – Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO), the world’s leading supplier of metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) systems, announced today that it has signed a joint development project (JDP) agreement with imec, the Belgium-based nano-electronics research center. The collaboration is expected to accelerate the development of highly-efficient, Gallium Nitride (GaN) based, power electronic devices using GaN Epi wafers created using Veeco’sPropel™Power GAN MOCVD系统

IMEC已经在VEECO的Propel系统中显示出GAN层均匀性和运行重复性的显着增长,从而显着提高了动力设备的收率。单晶片反应堆结合了Veeco专有的TurboDisc®技术,该技术提供了与批处理反应堆相比,提供出色的薄膜均匀性,运行控制和缺陷水平。

“在我们在Gan-on-Si上的工业隶属关系计划的框架内,Veeco和IMEC在过去的四年中合作,以提高存放在硅晶体质体上的GAN层的EPI质量,” Rudi Cartuyvels说,高级副总裁Smart Systems Rudi Cartuyvels说。和IMEC的能源技术。“最终目标是生产下一代高效的电源开关设备。我们为2016年设定了非常高的GAN设备产量和可靠性目标,我们期待与Veeco合作以实现这些目标。”

根据IHS研究,行业需求正在增长,并且需要更小,更节能的能力IC。反过来,这推动了使用高级材料改进电源设备的需求。GAN-ON-SI加上改进的工艺解决方案(例如单滤器GAN MOCVD)对于这些改进的功率设备的开发至关重要。

VEECO MOCVD运营高级副总裁兼总经理吉姆·詹森(Jim Jenson)说:“我们对IMEC合作感到非常满意。”“全球对具有更高能源效率的先进电力电子产品的需求,较小的外形和更大的可靠性正在迅速加速。我们认为,我们推动单晶片系统中的技术将使IMEC能够实现其电源设备目标,并帮助将这些先进设备更快地推向市场。”

关于VEECO推进功率GAN单滤器反应堆MOCVD系统

Veeco的新推动力GAN MOCVD系统专为电力电子行业设计。该系统具有一个能够处理六英寸和八英寸晶片的单晶石200mm反应堆平台,该系统为生产高效的电源电子设备的高质量gan膜沉积。单晶片反应堆基于Veeco的TurboDisc®技术,包括新的Isoflange™和SymmHeat™突破性技术,这些技术可在整个晶圆中提供均匀的层流和均匀的温度曲线。客户可以轻松地将流程从VEECO K465I™和MaxBright®系统传输到Propel Power GAN MOCVD平台。

关于Veeco

Veeco的工艺设备解决方案可以制造LED,显示器,电源电子设备,复合半导体,硬盘驱动器,半导体,MEMS和无线芯片。我们是MOCVD,MBE,离子束,湿蚀刻单晶片加工和其他先进的薄膜过程技术的领导者。我们的高性能系统推动了能源效率,消费电子和网络存储方面的创新,使我们的客户能够最大程度地提高生产率并实现较低的所有权。有关我们公司,产品和全球服务和支持的信息,请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com

在本新闻发布讨论期望或以其他方式发表有关未来的陈述的范围内,此类陈述是前瞻性的,并且会受到许多风险和不确定性的影响,这些风险可能导致实际结果与所做的陈述实质性差异。These factors include the risks discussed in the Business Description and Management’s Discussion and Analysis sections of Veeco’s Annual Report on Form 10-K for the year ended December 31, 2014 and in our subsequent quarterly reports on Form 10-Q, current reports on Form 8-K and press releases. Veeco does not undertake any obligation to update any forward-looking statements to reflect future events or circumstances after the date of such statements.

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VEECO联系人:

投资者:媒体:

Shanye Hudson 516-677-0200 X1272shudson@veeco.comJeffrey Pina 516-677-0200 X1222jpina@veeco.com

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