Veeco和Allos展示了行业领先的200毫米甘硅性能，以实现微观的采用
产品新闻|2017年10月31日
Plainview，N.Y.M.Y.Y，2017年11月1日 - Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：VECO）今天宣布完成了与Allos Semiconductors（Allos）的战略倡议展示了蓝色/绿色微型LED生产的200mm Gan-On-Si晶片。Veeco与Allos一起使用Allos将其专有的外延技术转移到Propel®单晶圆MOCVD系统上，以使微LED生产在现有的硅生产线上。
“随着Propel反应器，我们拥有一个MOCVD技术，能够高产GaN外延，符合加工200毫米硅生产线的Micro-LED器件的所有要求，”Allos半导体首席执行官Burkhard Slischka表示。“在一个月内，我们在推动力方面建立了技术，并实现了不到30微米的无裂缝的无熔晶晶片，高于30微米，高晶体质量，优异的厚度均匀性和小于一个纳米的波长均匀性。Allos与Veeco一起，期待使这项技术更广泛地提供给Micro-LED生态系统。“
微LED显示技术由<30×30平方米的红色，绿色，蓝色（RGB）无机LED组成，它们传输到显示背板以形成子像素。与OLED和LCD相比，这些高效LED的直接发射提供较低的功耗，同时提供卓越的亮度和移动显示器，电视和可穿戴物的亮度。微LED的制造需要高质量，均匀的外延晶片，以满足显示产量和成本目标。
“In contrast to competing MOCVD platforms, Propel offers leading-edge uniformity and simultaneously achieves excellent film quality as a result of the wide process window afforded by Veeco’s TurboDisc® technology,” said Peo Hansson, Ph.D., Senior Vice President and General Manager of Veeco MOCVD Operations. “Combining Veeco’s leading MOCVD expertise with ALLOS’ GaN-on-Silicon epi-wafer technology enables our customers to develop micro-LEDs cost effectively for new applications in new markets.”
关于Veeco.
Veeco（纳斯达克：Veco）是一家创新半导体工艺设备的领先制造商。我们经过验证的MOCVD，光刻，激光退火，离子束和单晶片蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示器的LED方面以及高级半导体器件的制造中起作用的积分作用。凭借旨在最大限度地提高业绩，产量和所有权成本的设备，Veeco在所有这些送达市场中占据了技术领导职位。vwin官方网站了解有关Veeco的创新设备和服务，请访问www.theljp.com.。
关于Allos半导体
Allos是一家知识产权许可和技术工程公司，帮助全球半导体行业的客户掌握Gan-on-Si技术并释放其优vw德赢手机客户端势。Allos正在为其技术专业知识和专利提供许可以及将技术转移到客户的MOCVD抗堆。此外，Allos还提供客户特定的解决方案，并为下一代Gan-on-Si开发挑战提供咨询服务。
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