产品新闻|2015年2月11日
Plainview，纽约2015年2月11日 - Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：Veco）今天宣布，德国领先的德国复合半导体研究机构Fraunhofer Applation Solid StateM物理IAF研究所购买了Turbodisc®K465i镓氮化镓（GaN）MOCVD系统。
Fraunhofer位于德国弗赖堡，在III-V半导体领域进行了尖端研究。它们基于现代微观和纳米结构的应用，用于诸如安全性，能源，通信，健康和移动性等应用的电子和光电器件。
“After more than a decade of research in the field of nitride epitaxy on sapphire, silicon and silicon-carbide substrates, we have decided to upgrade our operation to include Veeco’s MOCVD technology,” said Dr. Martin Walther, Head of the Epitaxy Department and Deputy Director at Fraunhofer. “The K465i offers a clean process and exceptional run-to-run repeatability that will enable us to achieve new levels of development in high growth markets.”
Veeco屡获殊荣的K465I MOCVD系统具有优异的薄膜质量，低缺陷和高生产率，这是有效GAN处理的关键。该系统还包含Veeco的统一流程®技术，可实现卓越的均匀性和出色的跑步可重复性。自2010年介绍以来，K465I一直是全球销售MOCVD系统的顶级。
“由诸如Fraunhofer研究所的领先的复合半导体机构选择进一步证明Veeco领先的MOCVD系统是各种基于GAN的外延申请的理想解决方案，”韦科莫瓦总经理高级副总裁Jim Jenson表示。“我们努力提供创新的流程解决方案，包括最近推出Power Electronics设备的Power™Powergan™MOCVD系统。随着我们的创新，我们的TurboDisc和Propel平台为复合半研发和生产领导者提供了出色的表现。“
关于Fraunhofer IAF.
Fraunhofer IAF通过复合半导体开发电气和光学装置。该研究所成立于1957年，是III-V半导体领域的领先研究设施之一。Fraunhofer IAF在整个领域使用超过280人：从材料和设计分析到实现模块和系统。Fraunhofer IAF的技术用于各种应用领域，例如安全，能源，通信，健康和移动性。该研究所在工业和研究中拥有大约170个合作伙伴。有关更多信息，请访问http://www.iaf.fraunhofer.de/en.html。
关于Veeco.
Veeco的工艺设备解决方案使得LED，柔性OLED显示器，电力电子，复合半导体，硬盘，半导体，MEMS和无线芯片制造。我们是MOCVD，MBE，离子束，湿蚀刻单晶片加工等先进薄膜工艺技术的市场领导者。我们的高性能系统推动了能源效率，消费电子和网络存储的创新，并让我们的客户最大限度地提高了生产率并实现了更低的所有权成本。有关我们公司，产品和全球服务和支持的信息，请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com。
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