原子层沉积LA 2的电气性质o 3使用新型La甲夹层前体和臭氧的薄膜
作者：李，B，公园，T. J.，Hande，A，Kim，M J和Wallace，R M
发布时间：2009年
网页链接：http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/s0167931709002238.
作者：李，B，Choi，K J，Hande，A，Kim，M J，Wallace，R M，Kim，J，Senzaki，Y，Shenai，D，Li，H，Rousseau，M和Suydam，J
发布时间：2009年
La-掺杂<方程> Zro中的热感应介质增强 2由原子层沉积种植？
作者：Lamagna，L，Wiemer，C.和Baldovino，S
发布时间：2009年
网页链接：http://ieeexplore.ieee.org/xpls/abs_all.jsp?arnumber=5281628
作者：Kriegler，C，瑞尔，M S，Thiel，M，M�ller，E，Essig，S，Fr�lich，A，Freymann，G，菩提树，S，Gerthsen，D，Hahn，H，Busch，k和wegener，m
发布时间：2009年
网页链接：http://www.springerlink.com/index/10.1007/S00340-009-3527-7
生长温度和前体的影响？原子层沉积技术生长ZnO薄膜电参数的剂量
作者：Krajewski，T，Guziewicz，E，Godlewski，M，Wachnicki，L，Kowalik，I A，Wojcik-Glodowska，A，Lukasiewicz，M，Kopalko，K，Osinniy，V和Guziewicz，M
发布时间：2009年
网页链接：http://linkinghub.elsevier.com/retrieve/pii/s0026269208003996.
作者：Kim，N，Potscavage，W J，Domercq，B，Kippelen，B和Graham，S
发布时间：2009年
网页链接：http://link.aip.org/link/applab/v94/i16/p163308/s1&ag=doi.
作者：Kim，J B，Fuentes-Hernandez，C，Potscavage，W J，Zhang，X. H.和Kippelen，B
发布时间：2009年
网页链接：http://link.aip.org/link/applab/v94/i14/p142107/s1&agg=doi.
聚（3-己基噻吩）/ ZnO杂交<方程> PN微电子应用的接头
作者：Katsia，E，Huby，N和Tallarida，G
发布时间：2009年
网页链接：http://ieeexplore.ieee.org/xpls/abs_all.jsp?arnumber=4837451