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Veeco的离子束沉积系统由掩码空白供应商选择EUV掩模空白

2月10日,2022年

Plainview,N.Y.,2月10日,2022年2月10日(新闻界) -Veeco Instruments Inc.。(纳斯达克:Veco)今天宣布,半导体行业的面具空白供应商已订购Veeco的IBD-LDD®离子束沉积(IBD)系统。IBD系统将用于满足用于创建与高级逻辑和内存应用相关的半导体器件的极端紫外(EUV)掩模空白的需求。这家新客户正在为高批量生产的低缺陷EUV掩模空白获取Veeco的IBD技术。

“此次购买重申Veeco在EUV面具空白所需的低缺陷密度沉积中的领导地位,”Adrian Devasahayam,Ph.D.,Phond.,Phond.,Phond。“我们一直在为世界的EUV面具为空白制造商提供无与伦比的技术和卓越的过程专业知识超过20年。IBD-LDD是唯一符合要求苛刻的粒子缺陷规范的平台,同时提供出色的可重复性和产量。随着先进的逻辑和内存设备需要较小的几何形状,我们经过验证的技术和强大的产品路线图,现已成为理想的供应商,未来几年。“

Veeco的IBD技术在高薄膜质量方面引发了该行业,具有极低的缺陷密度和精确控制的单层或多层工艺。无缺陷,高批量EUV制造需要这些技术功能。目前,所有领先的EUV面罩空白制造商使用Veeco IBD-LDD系统。

关于Veeco.
Veeco(纳斯达克:Veco)是一家集半导体工艺设备的创新制造商。我们经过验证的离子束,激光退火,光刻,MOCVD和单晶片蚀刻和清洁技术在高级半导体器件的制造和包装中起着积分作用。veeco旨在优化优化性能,产量和所有权成本的设备,在我们所服务的市场中持有领先的技术职位。vwin官方网站了解有关Veeco的系统和服务产品的更多信息,请访问www.theljp.com.

在此新闻发布讨论期望或以其他方面发表对未来的陈述的范围内,此类陈述是前瞻性的,受到许多风险和不确定性的影响,可能导致实际结果与所做的陈述有所不同。这些因素包括商业介绍和管理层讨论的风险,Veeco于2020年12月31日止年度的年度10-k年度报告的讨论和分析部分,并在我们的后续季度报告中关于表格10的季度报告8-k和新闻稿。Veeco不承担更新任何前瞻性陈述以在此类陈述之后反映未来事件或情况的任何义务。

Veeco联系人
投资者: Anthony Bencivenga. (516)252-1438 abencivenga@veeco.com.
媒体: 凯文长 (516)714-3978 klong@veeco.com.

主要标识

资料来源:Veeco Instruments Inc.

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类别: 新闻稿
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