Savannah - 研发的热ALD
高级研究的高级功能
Veeco是全球研究和工业的原子层沉积（ALD）系统的领先供应商，提供可访问，价格合理和准确的综合服务和多功能的交钥匙系统。薄膜沉积是我们的专业知识。我们的Savannah®系列薄膜沉积工具举例说明了这些能力。
Savannah®已成为全球大学研究人员的首选系统，从事ALD，并寻找经济实惠的更强大的平台。我们在过去十年中提供了数百个系统。Savannah®的高效使用前体和省电功能基本上降低了操作薄膜沉积系统的成本。
主要功能包括：
- 原位椭圆测量
- 原位QCM
- 自我组装单层
- 2秒循环时间
- 集成臭氧
- 低蒸气压沉积
- 批量处理
- 手套箱集成
Savannah®配备了高速气动脉冲阀，以使我们的独特暴露模式™用于超高纵横比基板上的薄膜沉积。该经过验证的精密薄膜涂料方法可用于将共形，均匀的薄膜沉积在具有大于> 2000：1的宽高比的基材上。Savannah®有三种配置提供：S100，S200和S300。Savannah®能够将不同尺寸的基板（S300高达300毫米）保持。Savannah®薄膜沉积系统配备了加热的前体系，并选择最多六条线。Savannah®能够处理气体，液体或固体前体。
Savannah®G2技术规格
| 基板尺寸 | Savannah S100：高达100毫米 Savannah®S200：高达200毫米 Savannah®S300：高达300毫米 |
| 尺寸（w x d x h） | Savannah S100：585 x 560 x 980 mm Savannah®S200：585 x 560 x 980 mm Savannah®S300：686 x 560 x 980 mm |
| 内阁 | 钢与白色粉末涂料涂料与可拆卸面板和可锁定的前体门 |
| 操作模式 | 连续模式™（高速）或曝光模式™（超高纵横比） |
| 力量 | 115 VAC或220 VAC，1500 W（不包括泵） |
| 控制 | LabVIEW™，Windows™7，Lenovo笔记本电脑，USB控制 |
| 最大衬底温度 | S100：RT - 400°C S200：RT - 350°C S300：RT - 350°C |
| 沉积均匀性 | （al.2O.3.）<1％（1σ） |
| 周期 | <每周期2秒2O.3.在200°C |
| 真空泵 | Alcatel 2021C2 - 14.6 CFM |
| 兼容性 | 洁净室100级兼容 |
| 遵守 | CE，TUV，FCC |
| 前体送货系统，端口 | 2线标准，可用多达6行 每条线适应固体，液体和气体前体 线可以独立加热到200°C |
| 前体输送系统，阀门 | 工业标准高速ALD阀门，具有10毫秒响应时间 |
| 前体汽缸 | 单独加热50毫升不锈钢气缸，可选的较大圆柱体 |
| 载体/通风气体 | N.2质量流量控制，100 sccm |
| 选项 | 低蒸汽压力输送（LVPD）系统 臭氧发生器 晶圆盒或3D对象的圆顶盖 手套箱界面 原位椭圆测量 原位石英晶体微稳定（QCM） 自我组装单层（Sams） 颗粒涂层 |