Nexus IBD-LDD离子束沉积系统

25年在离子束产品中的建设领导能够实现今天的无缺陷的EUV面具空白

Photomask Manufacturing要求沉积复杂的多层膜结构的同时需要最高水平的颗粒控制。这项挑战与Veeco的Nexus IBD-LDD离子束沉积系统满足。Veeco自20世纪90年代以来成功地服务于光掩模市场，多年的学习导致了今天的最先进的制度。IBD-LDD系统非常适用于当今的钼（Mo）和硅（Si）多层沉积和钌（Ru）覆盖层沉积在EUV掩模坯料上，以及需要低缺陷水平和先进的薄膜的其他掩模应用。

• • 生产验证平台
  • 最低缺陷密度
  • 优异的均匀性和可重复性
  • 高反射率
  • 沉积同一腔室的多种材料
  • 可以将其他进程模块集成到群集工具中