6cm x 66cm rf离子源

提供大规模基板的高度均匀的离子束处理

理想的适用于大型基板的均匀加工，Veeco的6 x 66cm RF线性离子源为100％氩气，氧气等反应气体提供低维护，无丝，长时间的生产运行。

• 为预清洁，蚀刻和离子束辅助沉积（IBAD）应用提供适当的电流密度和均匀性
• 水冷
• 惰性和氧化环境中可靠，均匀的操作
• 低功率操作
• 行业唯一的丝绒RF中和性使得生产较长的生产运行
• 可选的四个网格设计提供非常高的准直
• 稳定高效的等离子体操作允许精确控制和高可重复性