6cm x 22cm rf离子源
用于中型和大型预清洁，蚀刻和沉积的线性RF离子源
Veeco的6 x 22cm网格线性RF离子源专为具有高效的内线系统而设计，具有基板的托盘，大基板或小型小基板阵列。它设计用于高可用性，低维护操作，是使用100％氩，氧气或其他反应气体的工艺的理想选择。
- 为预清洁，蚀刻和离子束辅助沉积（IBAD）应用提供适当的电流密度和均匀性
- 适用于低维护，长期不间断的生产运行
- 惰性和氧化环境中可靠，均匀的操作
- 低至适量的电源操作
- 稳定高效的等离子体操作允许精确控制和高可重复性
用于中型和大型预清洁，蚀刻和沉积的线性RF离子源
Veeco的6 x 22cm网格线性RF离子源专为具有高效的内线系统而设计，具有基板的托盘，大基板或小型小基板阵列。它设计用于高可用性，低维护操作，是使用100％氩，氧气或其他反应气体的工艺的理想选择。