新闻|2019年4月3日
Veeco的最佳精密表面处理平台支持Skywater与Massachusetts技术研究所的协作工作，以最大限度地提高电子设备性能
Plainview，N.Y.和Bloomington，Mn， - Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：veco）今天宣布，Skywater技术铸造厂已送货Waferstorm®单晶片湿法工艺系统为支持下一代3D单片系统上芯片（3DSOC）技术的设计和制造的先进开发工作。Skywater基于最先进的U.S.基于U.S.所有技术铸造厂，利用WaferStorm的流程性能和生产能力来创建密集的集成逻辑和内存产品。使用突破性3DSOC技术，Skywater正在与Massachusetts技术研究所（MIT）的研究人员合作，为设备性能和能效设置新的阈值。
“我们的Waferstorm系统的选择是基于Veeco的声誉，为湿法处理提供了最佳技术，这使得能够获得许多前沿应用，”技术开发副总裁Gregg Matminga，Skywater。“基于溶剂的平台在晶圆加工过程中提供了精确的控制水平，这对于我们正在处理的创新至关重要，以开发以更低的成本开发推动更好的执行设备的技术。”
waferstorm的独特我MMJET™溶剂技术与常规批次或仅喷雾的方法相比，为客户提供最佳整体流程性能，灵活性和生产能力。Waferstorm提供经过验证的，可靠的金属升降（MLO），光致抗蚀剂带，干膜抗蚀剂带，通过清洁，助焊剂和其他先进的包装工艺提供可靠的解决方案。WaferStorm也是MLO在几个领先的垂直腔表面发射激光器（VCSEL）制造商的MLO记录的生产工具。
“Skywater在Waferstorm的选择进一步展示了Veeco在先进的湿法加工技术方面的领导力，我们很高兴与铸造厂在3DSOC空间中推动真正的创新，”Veeco精密表面处理业务部的总经理Scott Kroeger说。“我们的全套溶剂，清洁和蚀刻技术非常适合帮助创建一类新的微电子设备和系统，该系统延伸超出以前的性能和效率的阈值。”
如IEEE报道，单片3D集成的进步为高效的下一代计算系统奠定了基础。随着人工智能的出现，边缘计算和深度学习在内存访问中推动创新作为未来系统设计的关键推动因素，3DSOC的使用代表了计算机行业和高科技世界的范式转变。随着行业达到下一代3DSOC技术，Waferstorm以最低的所有权成本提供优异的过程，使创新者可以像Skywater一样推进研究和提高设备性能。
关于Veeco.
Veeco（纳斯达克：Veco）是一家创新半导体工艺设备的领先制造商。我们经过验证的MOCVD，光刻，激光退火，离子束和单晶片溶剂蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示器的LED中起作用的积分作用，以及在高级半导体器件的制造中起作用。凭借旨在最大限度地提高业绩，产量和所有权成本的设备，Veeco在所有这些送达市场中占据了技术领导职位。vwin官方网站要了解有关Veeco的创新设备和服务的更多信息，请访问www.theljp.com。
关于Skywater Technology Foundry
Skywater是唯一一个基于美国和美国拥有的DMEA认可的纯Play技术铸造厂，专门从事先进的创新工程服务，开发和快速缩放下一个波浪技术。Skywater作为AsiC和定制铸造厂，生产各种各样的市场差异化电路，包括：消费者，工业，医疗，航空航天和防御，汽车和物联网等。vwin官方网站Skywater根据个人项目和客户需求裁定其业务和技术服务。有关更多信息，请访问：www.skywatertechnology.com/。