新的Turbodisc EPIK 868 MOCVD系统超越了EPIK 700，作为业内最富有成效和成本效益的工具
Plainview，NY- （MarketWired） -
09/25/17-
Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：veco）今天宣布它已将多个TurboDisc®Pepik®868镓（GaN）金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统发布到几个领先的中国LED制造商，用于生产用于固态照明应用的发光二极管（LED）。
与之前的几代相比，EPIK 868 MOCVD系统通过最佳操作正常运行时间，低维护成本和最佳晶圆均匀性的组合优势，每晶圆节省的成本高于20％以上。此外，该系统的紧凑型架构具有业界最佳的高批量LED生产占用效率。
“引入较低成本和更高生产率的EPIK 868到中国LED市场清楚地表明了Veeco对这一重要地区的长期承诺，”评论道
威廉J. Miller.，博士，韦科总统。“随着EPIK 868，我们的中国客户可以继续利用Veeco的领先优势技术开发和世界级服务产品，以实现较低的所有权成本。”
基于Veeco的经过验证的Turbodisc技术，新开发的EPIK 868 MOCVD系统为客户提供了一个四抗体平台，可获得最高的生产力和35％的占用占据竞争相比的35％。此外，可以增加晶片载体容量，以便每个批次的吞吐量更大。
“EPIK 868建于生产经过生产经过验证的Turbodisc平台，在全球范围内安装了超过一千个房间，为客户提供最高的操作稳定性和效率，”补充说
PEO Hansson.，博士，高级副总裁兼总经理，Veeco Mocvd运营。“新的EPIK 868系统不仅可以提高客户的生产力和所有权成本，而且还将提供来自MOCVD技术世界领导者的高度可靠的领先生产工具。”
关于Turbodisc Epik 868 GaN Mocvd系统
Veeco的新EPIK 868 MOCVD系统是LED行业的最高生产力MOCVD系统，与之前的几代相比，每晶圆的成本降低超过20％。EPIK 868采用四堆电抗器配置，具有突破性技术，包括专有的ISOflange™和TRUHEAT™技术，可在整个晶片载体上提供均匀的层流式流动和均匀的温度曲线。这些技术创新产生波长均匀性，以推动更高的收益率。由于其4室配置和提高晶圆载体容量的能力，EPIK 868系统将通过EPIK 700系统提供2.3倍的吞吐量优势。客户可以轻松地将现有TurboDisc系统从现有的TurboDisc系统转移到新的EPIK 868 MOCVD平台，以便快速生产高质量LED。
关于Veeco.
Veeco.（纳斯达克：veco）是创新半导体工艺设备的领先制造商。我们经过验证的MOCVD，光刻，激光退火，离子束和单晶片蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示器的LED方面以及高级半导体器件的制造中起作用的积分作用。凭借旨在最大限度地提高业绩，产量和所有权成本的设备，Veeco在所有这些送达市场中占据了技术领导职位。vwin官方网站了解有关Veeco的创新设备和服务，请访问www.theljp.com.。
在此新闻发布讨论期望或以其他方面发表对未来的陈述的范围内，此类陈述是前瞻性的，受到许多风险和不确定性的影响，可能导致实际结果与所做的陈述有所不同。这些因素包括商家描述和管理层讨论的风险，Veeco于截至年度10-K表格的年度报告的讨论和分析部分
2016年12月31日在我们随后的季度报告表格10-Q，目前关于表格8-K和新闻稿的报告。Veeco不承担更新任何前瞻性陈述以在此类陈述之后反映未来事件或情况的任何义务。
Veeco Instruments Inc.
投资者：
萨姆马赫瓦里
516-307-0864
Investorrelations@veeco.com.
媒体：
杰弗里帕帕
516-677-0200 x1222
jpina@veeco.com.
来源：
Veeco Instruments Inc.