产品资讯| 2017年9月25日
新的TurboDisc EPIK 868 MOCVD系统超过EPIK 700，成为行业中生产效率和成本效益最高的工具
Veeco Instruments Inc. (NASDAQ: VECO)今天宣布，它已经向几家领先的中国LED制造商交付了多个TurboDisc®EPIK®868氮化镓(GaN)金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统，用于生产固态照明应用的发光二极管(LED)。
与前几代相比，EPIK 868 MOCVD系统使每片晶圆成本节省超过20%，具有最佳运行正常时间、低维护成本和一流晶圆均匀性的综合优势。此外，该系统的紧凑架构具有业界最佳的高容量LED生产占地效率。
Veeco总裁William J. Miller博士表示:“将低成本、高生产率的EPIK 868引入中国LED市场，清楚地表明了Veeco对这一重要地区的长期承诺。”“有了EPIK 868，我们的中国客户可以继续以显著降低的拥有成本利用Veeco领先的技术开发和世界级的服务。”
基于Veeco经过验证的TurboDisc技术，新开发的EPIK 868 MOCVD系统为客户提供了一个四反应堆平台，与竞争对手相比，生产率最高，占地面积减少35%。此外，晶圆载体容量可以增加，以实现每批更大的吞吐量。
Veeco MOCVD运营高级副总裁兼总经理Peo Hansson博士补充说:“EPIK 868是建立在经过生产验证的TurboDisc平台上的，在全球范围内安装了超过1000个腔室，为我们的客户提供了最高的运行稳定性和效率。“新的EPIK 868系统不仅将提高我们客户的生产效率和拥有成本，而且它还将提供来自MOCVD技术世界领先的高可靠性、领先的生产工具。”
关于TurboDisc EPIK 868 GaN MOCVD系统
Veeco的新EPIK 868 MOCVD系统是LED行业生产率最高的MOCVD系统，与前几代相比，每片成本降低了20%以上。EPIK 868具有四反应堆配置，具有突破性技术，包括专利的iso法兰™和TruHeat™技术，在整个晶圆载体上提供均匀的层流和均匀的温度分布。这些技术创新产生了波长均匀性，在更紧凑的容器中驱动更高的产量。由于EPIK 868系统的4腔结构和增加晶圆载流子容量的能力，其吞吐量将比EPIK 700系统高出2.3倍。客户可以轻松地将工艺从现有的TurboDisc系统转移到新的EPIK 868 MOCVD平台，快速开始生产高质量的led。
关于Veeco
Veeco(纳斯达克代码:VECO)是一家领先的创新半导体工艺设备制造商。我们经过验证的MOCVD、光刻、激光退火、离子束和单片蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示器的led以及先进半导体器件的制造中发挥着不可或缺的作用。Veeco的设备设计旨在最大化性能、产量和拥有成本，在所有这些服务市场保持技术领先地位。vwin官方网站欲了解更多Veeco的创新设备和服务，请访问www.theljp.com。
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