北卡罗莱纳州立大学获得里程碑式的发货，加强了行业对Veeco碳纳米管ALD技术研发的依赖
丹佛(2017年7月17日)- Veeco Instruments Inc.(纳斯达克代码:VECO)今天宣布，Veeco CNT(前身为Ultratech/Cambridge Nanotech)向北卡罗来纳州立大学(North Carolina State University)交付了其第500套原子层沉积(ALD)系统。Veeco CNT斐济®G2TM ALD系统将使该大学能够为下一代电子设备进行各种研究应用，包括高性能可穿戴设备和传感器。
“Veeco CNT斐济G2 ALD系统将是实现我们雄心勃勃的研究目标的关键工具，”北卡罗来纳州立大学NSF NERC协助中心研究助理教授Bongmook Lee博士说。“这种ALD工具推动了我们对高性能CMOS、非易失性存储器、下一代宽带功率器件以及环境和生理传感器的研究。我们选择Veeco碳纳米管斐济G2，因为它具有可靠的沉积最具挑战性的氧化物和氮氧化物薄膜的能力。我们很高兴成为第500套系统的里程碑，我们将继续与Veeco CNT保持紧密的合作关系。”
Veeco CNT斐济G2 ALD系统是一种先进的下一代薄膜ALD系统，能够在模块化、高真空、灵活的架构下进行热和等离子体增强沉积，使用多种前驱体和等离子体气体配置，可适应多种沉积模式。该系统直观的界面使它很容易监控和更改食谱和过程，根据客户的要求。
Veeco CNT应用技术副总裁Ganesh Sundaram博士表示:“我们的第500套ALD系统的发货证实了人们对ALD技术日益增长的兴趣。“现在，在Veeco的支持下，我们将继续我们的传统，建立和加强ALD技术的部署，帮助像北卡罗来纳州立大学这样的客户开发下一代电子设备。”
2017年5月26日，Veeco收购了光刻、激光加工、检测和原子层沉积(ALD)系统的领先供应商Ultratech, Inc.。在过去的15年里，Veeco CNT已成为ALD系统的领先供应商，广泛应用于大学研发和商业应用，包括生物医学、电子、能源和光学。
Veeco CNT是2017年7月15-18日在科罗拉多州丹佛市举行的第17届国际原子层沉积会议(ALD 2017)的白金赞助商。Ultratech-CNT将在23号展位展出，并发表论文:
作为SuA5应承担的利用单一ALD/SAMS平台开发全晶圆尺度的方法，在铜和低钾(和氧化物)上实现高ALD选择性，Laurent Lecordier, Ultratech;S. Armini, S. Herregods, IMEC，比利时
AA SuP51应承担的用透明ALD薄膜栈对金属表面进行颜色改性，Ritwik Bhatia, A. Bertuch, Ultratech
房颤所致MoP24用干涉测量法测量ALD薄膜和纳米层压板的应力与控制，Ritwik Bhatia, Ultratech
EM-MoP12利用光谱椭圆偏振法对薄膜碳化钼进行原位表征，Adam Bertuch, Ultratech;j·霍格伦德,SemiLab;l . Makai Semilab;j·伯恩斯,SemiLab;J. McBee, G. Sundaram, Ultratech
AA1 TuA13应承担的TiVN等离子体增强原子层沉积的机械、物理和电学特性，Mark Sowa, Ultratech;N. Strandwitz, L. Ju，里海大学;A. Kozen，美国海军研究实验室;B.克里克，里海大学
关于Veeco
Veeco(纳斯达克代码:VECO)是创新半导体工艺设备的领先制造商。我们成熟的MOCVD、光刻、激光退火、离子束和单片蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示的led以及制造先进的半导体器件方面发挥着不可或缺的作用。Veeco的设备设计旨在最大化性能、产量和拥有成本，在所有这些服务市场中都处于技术领先地位。vwin官方网站欲了解更多关于Veeco的创新设备和服务，请访问www.theljp.com。
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