产品新闻|2017年7月17日
北卡罗来纳州立大学获得了里程碑式运输，加强了行业对ALD技术研发的VEECO CNT的依赖
ALD会议2017年（展位＃23）丹佛 - （2017年7月17日） - Veeco Instruments Inc.（NASDAQ：VECO）今天宣布，Veeco CNT（以前称为Ultratech/Cambridge Nanotech）发货了其第500个原子层沉积（ALD）系统（ALD）系统到北卡罗来纳州立大学。VEECOCNTFIJI®G2TMALD系统将使大学能够为下一代电子设备（包括高性能的可穿戴设备和传感器）执行各种研究应用程序。
北卡罗来纳州立大学NSF NERC助理中心研究助理教授Bongmook Lee博士说：“ VEECO CNT FIJI G2 ALD系统将是实现我们雄心勃勃的研究目标的关键工具。”“该ALD工具可以在我们的高性能CMO，非易失性记忆，下一代宽带隙功率设备以及环境和生理传感器方面的研究中进展。我们选择了Veeco CNT Fiji G2的证明能力，可以可靠地沉积最具挑战性的氧化物和氮化物薄膜。我们很高兴能成为获得第500系统的这一里程碑的一部分，并且我们继续与Veeco CNT建立牢固的关系。”
Veeco CNT Fiji G2 ALD系统是一种先进的薄膜下一代ALD系统，能够在模块化高空的柔性体系结构中执行热和等离子体增强的沉积，可使用多种形式的前体和前体和多种配置，以适应各种沉积模式血浆气体。该系统的直观界面使客户易于监视和更改客户的需求。
VEECO CNT应用技术副总裁Ganesh Sundaram博士Ganesh Sundaram博士说：“我们的第500 ALD系统发货验证了对ALD技术的日益兴趣。”“现在，在VEECO的支持下，我们将继续我们的遗产来建立和增强ALD技术的部署，以帮助北卡罗来纳州立大学等客户开发下一代电子设备。”
2017年5月26日，Veeco收购了Ultratech，Inc。，该公司是光刻，激光处理，检查和原子层沉积（ALD）系统的领先供应商。在过去的15年中，Veeco CNT已成为广泛的大学研发以及包括生物医学，电子，能源和光学的商业应用的ALD系统的领先提供商。
Veeco CNT是2017年7月15日至18日在科罗拉多州丹佛举行的第17届国际原子层沉积会议（ALD 2017）的铂金赞助商。Ultratech-CNT将在23号展位上展出，并发表论文：
AS -SUA5使用单个ALD/SAMS平台Laurent Lecordier，Ultratech开发出完整的晶圆尺度方法，以在铜与低k（和氧化物）上进行高ALD选择性；S. Armini，S。Herregods，IMEC，比利时
AA -SUP51通过透明ALD膜堆栈对金属表面的颜色修饰，Ritwik Bhatia，A。Bertuch，Ultratech
AF -MOP24通过干涉测量法测量的ALD膜和纳米层压的应力测量和控制
EM-MOP12使用光谱椭圆法，Adam Bertuch，Ultratech对薄膜钼酸化的原位表征；J. Hoglund，Semilab；L. Makai，Semilab；J. Byrnes，Semilab；J. McBee，G。Sundaram，Ultratech
AA1 -TUA13TIVN，Mark Sowa，Ultratech的血浆增强原子层沉积的机械，物理和电性能；N. Strandwitz，L。Ju，Lehigh University；A. Kozen，美国海军研究实验室；B. Krick，Lehigh University
关于Veeco
Veeco（NASDAQ：VECO）是创新半导体工艺设备的领先制造商。我们经过验证的MOCVD，光刻，激光退火，离子束和单晶片蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示的LED中起着不可或缺的作用，以及制造高级半导体设备。凭借旨在最大化绩效，产量和所有权成本的设备，Veeco在所有这些服务市场中都持有技术领导地位。vwin官方网站要了解有关Veeco的创新设备和服务的更多信息，请访问www.theljp.com。
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