纽约州普莱恩维尤- （商业资讯） -
Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：维科）今天宣布
剑桥大学，世界上最受尊敬的研究大学之一，已下令PROPEL™氮化碳（GAN）金属有机化学蒸气沉积（MOCVD）系统用于Gan-on-on-silicon（SI）功率电子和发光二极管（LED）研究和开发。
由世界知名教授爵士领导
科林·汉弗莱斯，系统将安装在
剑桥氮化盐中心位于
英国剑桥。自2000年以来，Humphreys教授对LED开发中使用的Ingan量子井进行了广泛的研究。Gan-On-Silicon技术被认为是省式赛车技术的潜在节省替代品。
“经过仔细考虑，我们得出结论，Veeco的Propel MOCVD系统比其他系统具有明显的优势，以改善和扩展我们的塞利康R＆D R＆D R＆D能力，” Sir Sir Sir教授说。
科林·汉弗莱斯，研究主任
剑桥大学。“氮化炮是自硅的电力电子和LED以来最重要的半导体材料。PREPEL POWERGAN平台可以在具有低颗粒缺陷的干净稳定过程环境中增长高性能设备结构。”
根据
IHS研究，随着新设备应用于电源，消费电子，汽车和其他应用，GAN电力电子设备市场预计将以超过90％的复合年增长率增长。
“ Propel Powergan单晶片系统可以开发高效的基于GAN的电力电子设备，我们认为这将加速行业从研发到大量生产的过渡。”
吉姆·詹森VEECO MOCVD运营高级副总裁。“自推出以来，我们的新推进Powergan系统已因其出色的性能而迅速引起人们的关注。我们很高兴能被如此杰出的大学认可和采用，该大学处于塞利康开发的最前沿。”
关于VEECO推进功率GAN单滤器反应堆MOCVD系统
Veeco的新推动力GAN MOCVD系统专为电力电子行业设计。该系统具有一个能够处理六英寸和八英寸晶片的单晶石200mm反应堆平台，该系统为生产高效的电源电子设备的高质量gan膜沉积。单晶片反应堆基于Veeco领先的TurboDisc®设计，其突破性技术，包括新的Isoflange™和Symmheat™技术，这些技术提供了整个晶圆的均匀层流和均匀温度曲线。客户可以轻松地将流程从VEECO K465I™和MaxBright®系统传输到Propel Power GAN MOCVD平台。
关于
剑桥硝酸盐中心
剑桥硝酸盐中心基于
材料科学和冶金系在
剑桥大学。它们是世界上少数地方的少数地方之一，在同一地点，硝酸盐生长设备，广泛的高级电子显微镜表征，高级X射线衍射特征，原子力显微镜，光发光（光发光）（光发光（光发光）（PL）用于测量光学特性，用于测量电气特性的霍尔效应设备以及用于详细理解物理特性的基本理论。研究团队在进入令人兴奋的新的基于GAN的研究领域时正在蓬勃发展。要了解更多信息，请访问http://www.gan.msm.cam.ac.uk/
关于Veeco
Veeco的工艺设备解决方案可以制造LED，灵活的OLED显示器，电源电子设备，复合半导体，硬盘驱动器，半导体，MEMS和无线芯片。我们是MOCVD，MBE，离子束，湿蚀刻单晶片加工和其他先进的薄膜过程技术的市场领导者。我们的高性能系统推动了能源效率，消费电子和网络存储方面的创新，使我们的客户能够最大程度地提高生产率并实现较低的所有权。有关我们公司，产品和全球服务和支持的信息，请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com。
在本新闻发布讨论期望或以其他方式发表有关未来的陈述的范围内，此类陈述是前瞻性的，并且会受到许多风险和不确定性的影响，这些风险可能导致实际结果与所做的陈述实质性差异。这些因素包括业务描述和管理层的讨论和分析部分中VEECO年度报告中有关年度表格10-K年度报告的风险
2014年12月31日在我们随后关于表格10-Q表格的季度报告中，有关8-K表格和新闻稿的当前报告。VEECO不承担任何义务更新任何前瞻性陈述，以反映此类陈述之日之后的未来事件或情况。
资源：
Veeco Instruments Inc.