genxplor研发MBE系统因突破性创新而公认
纽约州Plainview--（商业资讯） - APR。2014年2月2日 - Veeco Instruments Inc.（NASDAQ：VECO）今天宣布GenXplor™R＆D分子束外延（MBE）系统在过去的12个月中，赢得了复合半导体制造中最大突破的复合半导体（CS）行业奖。
“这CS行业奖认可赢得同龄人批准的公司。“我相信许多读者都投票赞成GenXplor，因为他们了解大学研究人员正在寻找一种强大，相对较小并且能够使他们能够尽快而成功地进行研究的工具。”
GenXPlor是一个完全集成的沉积系统，可在直径3英寸的底物上创建高质量的外延层，非常适合对各种材料（包括GAAS，氮化物和氧化物）进行尖锐的研究。其有效的单帧设计比其他MBE系统小40％，节省了宝贵的实验室空间并减少了安装时间。与其他MBE系统相比，GenXPlor的开放架构设计还提高了易用性，为积液细胞提供了方便的访问以及更容易的可用性。
这是Veeco三年来第二次获得该奖项。TurboDisc®Maxbright®多反应金属有机化学蒸气沉积（MOCVD）系统在2012年授予复合半导体制造奖，因为它是复合半导体设备中最大的突破。
“我们很荣幸获得GenXplor的CS制造奖，这是第一个在“复合半导体类别”中认可的MBE系统，” Veeco MBE运营总经理Jim Northup评论说。“自2013年推出以来，GenXplor已迅速成为领先的研究大学和机构首选的研发系统。”
关于Genxplor研发系统
Veeco的GenXplor具有高效的单帧设计，将所有真空硬件与车载电子设备结合在一起，比其他MBE系统小40％，从而节省了宝贵的实验室空间。由于手动系统集成在单个帧上，因此安装时间缩短。GenXplor的开放架构设计还提高了易用性，为积液细胞提供了方便的访问，并且与其他MBE系统相比，可更轻松的可用性。当加上Veeco最近引入的可伸缩源时，GenXPlor系统代表了氧化物材料研究中最新的。
关于Veeco
Veeco的工艺设备解决方案可以制造LED，柔性OLED，电源电子设备，硬盘驱动器，MEMS和无线芯片。我们是LED，MBE，离子光束和其他先进的薄膜过程技术的市场领导者。我们的高性能系统推动了能源效率，消费电子和网络存储方面的创新，使我们的客户能够最大程度地提高生产率并实现较低的所有权。有关我们公司，产品和全球服务和支持的信息，请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com。
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资料来源：Veeco Instruments Inc.
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