产品新闻| 2014年4月02日
GENxplor研发MBE系统因突破性创新而获得认可
普莱恩维尤,纽约——(业务线)4月。2014年2月2日- Veeco仪器公司(纳斯达克代码:VECO)今天宣布其GENxplor™研发分子束外延(MBE)系统因过去12个月在复合半导体制造领域取得的最大突破，荣获复合半导体(CS)工业奖。
“CS行业奖项认可已经赢得同行认可的公司，”化合物半导体杂志编辑Richard Stevenson说。“我相信许多读者投票支持GENxplor，因为他们明白，大学研究人员正在寻找一种强大的、相对较小的工具，并能够让他们尽可能快速和成功地进行研究。”
GENxplor是一种完全集成的沉积系统，可在直径达3英寸的基板上创建高质量的外延层，非常适合对各种材料(包括GaAs、氮化物和氧化物)进行前沿研究。其高效的单框设计使其比其他MBE系统小40%，节省了宝贵的实验室空间，减少了安装时间。与其他MBE系统相比，GENxplor的开放式架构设计还提高了易用性，方便了对积液细胞的访问，更容易使用。
这是Veeco在三年内第二次获得该奖项。TurboDisc®MaxBright®多反应器金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统作为复合半导体设备的最大突破，在2012年被授予复合半导体制造奖。
Veeco公司MBE运营部副总裁兼总经理Jim Northup表示:“我们很荣幸能够获得CS制造奖，GENxplor是第一个在复合半导体领域获得认可的MBE系统。”自2013年推出以来，GENxplor已迅速成为领先研究型大学和机构的研发系统选择。”
关于GENxplor研发MBE系统
Veeco公司的GENxplor采用了高效的单框架设计，将所有真空硬件与机载电子设备相结合，使其比其他MBE系统小40%，节省了宝贵的实验室空间。由于手动系统集成在单帧上，安装时间缩短了。GENxplor的开放式架构设计还提高了使用的便利性，提供了对积液细胞的方便访问，与其他MBE系统相比，GENxplor更容易使用。当与Veeco最近推出的可伸缩源相结合时，GENxplor系统代表了氧化物材料研究的最先进水平。
关于Veeco
Veeco的工艺设备解决方案使led、柔性oled、电力电子、硬盘驱动器、MEMS和无线芯片的制造成为可能。我们是LED、MBE、离子束等先进薄膜工艺技术的市场领导者。我们的高性能系统推动了能源效率、消费电子产品和网络存储方面的创新，使我们的客户能够最大限度地提高生产力，并实现更低的拥有成本。有关我们公司、产品和全球服务和支持的信息，请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com．
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来源:Veeco Instruments Inc.。
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