该源具有多种加热区，可以在抵抗腐蚀性蒸汽中抵抗化学侵蚀的同时产生裂纹或未粘接的硒通量。保持无与伦比的便利性和磁通控制，而不通过全金属针阀耗尽源材料。报告了卓越的结果生产蓝色/绿色LED和激光二极管器件。

• 专利设计，该领域拥有50多个
• 提供磁通调制和开/关控制
• 大源容量
• 利用喷嘴，用于出色的助焊剂均匀性和减少的材料废物
• 在系统烘烤期间防止源材料丢失
• 在全球领先的II-VI研究小组使用，在该领域超过50个

硒的Veeco Valved饼干被全球领先的II-VI研究组使用。可以操作其多个加热区域以产生裂纹或未粘附的硒通量。全金属针阀通过电导管调节到坩埚中的气流到生长模块。电导管由钽构成，用于溶于硒蒸汽的化学侵蚀。

随着最近的增强功能，硒的标记V型裂缝裂解器包括一种喷嘴，提供出色的助焊剂均匀性和降低的材料废物。材料利用率的改善导致：

• 物质节省成本
• 更长的活动
• 危险废物较少
• 减少内存效果
• 降低颗粒水平和弗拉林
• 减少系统窗涂层

硒的Veeco Valved饼干有500cc和1200cc尺寸，可与各种MBE系统相容。出口喷嘴定制到特定的MBE系统，用于晶片或压板上的出色助焊剂均匀性。建议使用Veeco SMC-II自动阀定位器，以便使用该源以可靠，自动控制针阀。

表现和福利

Selenium的Veeco阀门源提供了任何标准源无与伦比的便利性和磁通控制。使用针阀用于几乎瞬时通量调制和完全磁通关闭的针对生长过程进行了优化。源极可以在工作温度下连续空闲，而不会耗尽电荷材料。利用机械磁通控制，而不是用于传统开放源的热控制，电荷容量可以任意大而不限制源的响应性。

福利包括：

• 更长的增长运动
• 在烘烤和空闲时期期间充电保存
• 更彻底的电荷排除
• 在系统中降低无意组VI背景

基于Znmgsse / ZnSSE / ZnCDSE的蓝色/绿色发光二极管和激光二极管的成功增长，已经证明了出色的助焊剂稳定性和响应性。