萨凡纳 - 研发的热ald

高级研究的高级功能

Veeco是用于全球研究和行业的原子层沉积(ALD)系统的领先提供商,提供全面的服务和多功能的交钥匙系统,这些系统可访问,价格合理,价格合理且准确。薄膜沉积是我们的专业知识。我们的Savannah®系列薄膜沉积工具体现了这些能力。

Savannah®已成为全球从事ALD的大学研究人员的首选系统,并寻求负担得起却健壮的平台。在过去的十年中,我们已经交付了数百个系统。Savannah®有效利用前体和节能功能大大降低了操作薄膜沉积系统的成本。

关键功能包括:

  • 原位椭圆法
  • 原位QCM
  • 自组装单层
  • 2秒周期时间
  • 集成的臭氧
  • 低蒸气压沉积
  • 批量处理
  • 手套箱集成

Savannah®配备了高速气动脉冲阀,以使我们的独特曝光模式™用于超高纵横比基板上的薄膜沉积。这种经过验证的精度薄膜涂层方法可用于将纵横比大于> 2000:1的底物上沉积均匀的薄膜。Savannah®可提供三种配置:S100,S200和S300。Savannah®能够持有不同尺寸的基材(S300最高300mm)。Savannah®薄膜沉积系统配备了加热的前体线,并可以选择多达六行。Savannah®能够处理气体,液体或固体前体。

Savannah®G2技术规格

基材大小 Savannah S100:最多100毫米
Savannah®S200:最多200毫米
Savannah®S300:最多300毫米
尺寸(w x d x h) Savannah S100:585 x 560 x 980毫米
Savannah®S200:585 x 560 x 980毫米
Savannah®S300:686 x 560 x 980毫米
内阁 用白色粉末涂料油漆的钢和可移动面板和可锁的前体门
操作模式 连续模式™(高速)或曝光模式™(超高纵横比)
力量 115 VAC或220 VAC,1500 W(不包括泵)
控制 LabView™,Windows™7,联想笔记本电脑,USB控制
最高底物温度 S100:RT - 400°C
S200:RT - 350°C
S300:RT - 350°C
沉积均匀性 (al2O.3.)<1%(1σ)
周期 2O.3.在200°C
真空泵 Alcatel 2021C2 - 14.6 CFM
兼容性 清洁房间100兼容
遵守 CE,TUV,FCC
前体递送系统,端口 2行标准,多达6行可用
每条线可容纳固体,液体和气体前体
线可以独立加热到200°C
前体递送系统,阀门 行业标准高速ALD阀具有10毫秒响应时间
前体圆柱体 单独加热的50毫升不锈钢缸,可选的较大圆柱体可用
载气/通风气 n2质量流控制,100 SCCM
选项 低蒸气压递(LVPD)系统
臭氧发生器
圆顶盖,用于晶圆盒或3D对象
手套箱接口
原位椭圆法
原位石英晶体微平均水平(QCM)
自组装单层(SAMS)
粒子涂层

请参阅我们的模块化Savannah®。

查看ALD过程的工作原理。

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