Nexus PVDI物理气相沉积系统

灵活的沉积平台提供广泛的应用


Veeco的单目标Nexus PVDI物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用提供最大的灵活性。Nexus PVD具有200mm,功能高,具有先进的工艺能力,无与伦比的均匀性和多种沉积模式。

  • 无与伦比的可靠性和均匀性有助于提高流程产量
  • 吞吐量和正常运行时间,以降低所有权成本
  • Nexus平台与广泛的Veeco技术集成,例如离子束沉积,离子束蚀刻和原子层沉积

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