Nexus IBE离子束蚀刻系统
无与伦比的均匀性超过多种能量和过程角度
最大化滑块产生并通过Nexus IBE™离子束蚀刻系统实现优异的离子束蚀刻均匀性。IBE系统在广泛的能量和工艺角度提供无与伦比的均匀性，使其适用于蚀刻深度控制下一代ABS步骤和腔腔处理。
- 卓越的均匀性和改进的蚀刻深度控制
- 最高吞吐量和减少所有权成本的占用空间
- 轻松集成了世界级的Nexus硬件和软件平台上的共同技术
- Nexus离子源可提高蚀刻均匀性和过程重复性
- 还提供RF350的源，用于具有RF350源的流程合格使用的操作
- 平台可以是经济实惠的现场升级到Nexus Ion源
