Mark II +无线网络高输出

对于需要高电流，低能量离子的应用

标记II +无条件的高输出离子源具有空心阴极，设计用于腔室中的真空涂覆工艺，其直径为70-130厘米。

• 对于需要高电流，低能量离子的表面预清洁和辅助沉积等应用
• 提供改进的薄膜应力和化学计量控制
• 水冷
• 适合精密或工业光学涂层环境
• 灵活的集成允许节省空间的系统设计和宽波束角度
• 可以配置有或没有细丝，具体取决于工艺要求