Mark II +控制器
设计用于匹配端馆离子源等离子体特性
通过MARK II +离子源控制器最大化离子源性能和薄膜蚀刻，清洁和沉积均匀性。由Veeco设计成特异性匹配端厅离子源的等离子体特性，有助于确保高生产率的过程运行和对离子束输出的精确控制。
- 最先进的开关耗材
- 集成气体控制
- 自动电弧恢复
- 用户友好的图形界面和自动化功能增强了过程生产力
- 为高度均匀和稳定的离子束工艺提供稳定可靠的功率
设计用于匹配端馆离子源等离子体特性
通过MARK II +离子源控制器最大化离子源性能和薄膜蚀刻，清洁和沉积均匀性。由Veeco设计成特异性匹配端厅离子源的等离子体特性，有助于确保高生产率的过程运行和对离子束输出的精确控制。