标记i +无条件的离子源

为真空涂层工艺提供高光束电流

理想地适用于表面预清洁，辅助沉积和选择蚀刻应用，标记i +无条件离子源为设计用于真空涂层工艺的高光束电流，提高工艺均匀性并防止基板损坏。

• 设计为750mm直径为750mm的真空涂层工艺
• 适用于需要高电流低能量离子的应用
• 高光束电流特别适用于控制薄膜应力和化学计量
• 也适合于工业过程，包括无功环境
• Mark系列离子源控制器（单独提供）补充源性性能，提供稳定可靠的工艺操作