我们的FIJI®系列是一种模块化的高真空热ALD系统,可以使用灵活的架构和多种前体和等离子体气体配置各种沉积模式。Fiji G2是一种能够进行热和等离子体增强沉积的下一代ALD系统。
我们应用了高级计算流体动力学分析,以优化FIJI®Rextor,加热器和陷阱几何形状。系统的直观界面可以轻松监控和更改您需要的食谱和流程。
FIJI®可提供多达六条前体系,可容纳固体,液体或气体前体和六个等离子气体管线,在紧凑且价格合理的占地面积中提供显着的实验灵活性。
操作模式 | 连续模式™(传统的热ALD) 曝光模式™(高纵横比ALD) 等离子模式™(等离子体增强型ALD) |
基板尺寸 | 高达200毫米 |
衬底温度 | 500°C 200mm基板加热器标准 800°C 100mm基板加热器可选 |
沉积均匀性 | 1σ厚度均匀性在200mm基板上 热Al.2O.3.- <1.5% 等离子体al.2O.3.- <1.5% |
前体 | 4前体线标准,6个可选 气体,液体或固体前体可单独加热至200°C 工业标准高速ALD阀(10ms最小脉冲时间) 广泛可用的50cc(25ml填充最大)不锈钢前体缸 |
气体 | 100 SCCM AR前体载气MFC 500 sccm ar等离子气体mfc 100 sccm n2等离子气体MFC 100 sccm o.2等离子气体MFC 100 sccm h.2等离子气体MFC |
陷阱 | 集成,加热,薄铝箔ALD陷阱 |
兼容性 | 洁净室100级兼容 |
遵守 | CE,TUV,FCC SEMI S2 / S8(可选) |
方面 | 斐济系统(基地): 1600 x 715 x 1920 mm 斐济带装载锁: 1845 x 715 x 1920 mm |
力量 | 220-240 VAC,每个反应器4200 W(不包括泵) |
控制 | Microsoft Windows™10(或更高版本)笔记本电脑,基于LabVIEW的系统控制 |
真空泵 | >要求50cfm干泵 提供或提供客户 |
系统选项 | 光谱椭圆距离 石英晶体微稳定 RGA港口 光发射光谱仪 晶圆加 臭氧发生器 低蒸气压沉积 手套箱界面 自动负载锁定rf偏置 危险气体传感器/安全PLC Loadlock切换到其他真空设备 |