斐济 - 血浆增强型ALD为研发

高级研究的高级功能

我们的FIJI®系列是一种模块化的高真空热ALD系统,可以使用灵活的架构和多种前体和等离子体气体配置各种沉积模式。Fiji G2是一种能够进行热和等离子体增强沉积的下一代ALD系统。

我们应用了高级计算流体动力学分析,以优化FIJI®Rextor,加热器和陷阱几何形状。系统的直观界面可以轻松监控和更改您需要的食谱和流程。

斐济的高级功能包括:

  • 专有腔涡轮增压系统
  • 改善等离子设计
  • 符合人体工程学的操作员界面
  • 原位椭圆测量
  • 原位石英晶体微稳定
  • 集成臭氧
  • 手套箱界面

FIJI®可提供多达六条前体系,可容纳固体,液体或气体前体和六个等离子气体管线,在紧凑且价格合理的占地面积中提供显着的实验灵活性。

下载我们的最新白皮书:Technion-Esceel Technoits of Technion-Esceel Technologe of Regog-rese Low氧气掺入以及使用Veeco的Fiji®等离子ALD系统的Ald氮化物膜中的散装质量耐电阻。

技术规格

操作模式 连续模式™(传统的热ALD)
曝光模式™(高纵横比ALD)
等离子模式™(等离子体增强型ALD)
基板尺寸 高达200毫米
衬底温度 500°C 200mm基板加热器标准
800°C 100mm基板加热器可选
沉积均匀性 1σ厚度均匀性在200mm基板上
热Al.2O.3.- <1.5%
等离子体al.2O.3.- <1.5%
前体 4前体线标准,6个可选
气体,液体或固体前体可单独加热至200°C
工业标准高速ALD阀(10ms最小脉冲时间)
广泛可用的50cc(25ml填充最大)不锈钢前体缸
气体 100 SCCM AR前体载气MFC
500 sccm ar等离子气体mfc
100 sccm n2等离子气体MFC
100 sccm o.2等离子气体MFC
100 sccm h.2等离子气体MFC
陷阱 集成,加热,薄铝箔ALD陷阱
兼容性 洁净室100级兼容
遵守 CE,TUV,FCC

SEMI S2 / S8(可选)

方面 斐济系统(基地):
1600 x 715 x 1920 mm
斐济带装载锁:
1845 x 715 x 1920 mm
力量 220-240 VAC,每个反应器4200 W(不包括泵)
控制 Microsoft Windows™10(或更高版本)笔记本电脑,基于LabVIEW的系统控制
真空泵 >要求50cfm干泵
提供或提供客户
系统选项 光谱椭圆距离
石英晶体微稳定
RGA港口
光发射光谱仪
晶圆加
臭氧发生器
低蒸气压沉积
手套箱界面
自动负载锁定rf偏置
危险气体传感器/安全PLC
Loadlock切换到其他真空设备

我们的团队已准备好帮忙

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