通过这种紧凑的掺杂剂来源，可以实现分子束外延（MBE）中掺杂剂成分相对较低的通量的精确和稳定控制。它的较小的热质量为高级掺杂曲线提供了出色的响应能力，可重复性和稳定性，并在整个压板上均匀的通量均匀性。有效的细胞加热可最大程度地减少热负荷。

• 极其效率
• 根据提供掺杂剂通量的任务量身定制
• 提供出色的融合均匀性
• 设计用于快速稳定时间的时间最小
• 高度可重现和可靠
• 可用于研发和生产，现场超过620

VEECO掺杂剂源设计用于有效的操作，快速的热响应和出色的通量均匀性。为了通过用于掺杂材料的相对较小的电荷实现良好的均匀性，使用锥形角度的圆锥形PBN坩埚用于确保整个底物压板上的出色通量分布，而无需光束阴影或准直。

该源在大多数掺杂剂材料所需的相对较高的蒸发温度下有效运行，周围MBE生长室没有过多的热负载。虽然小掺杂源用单丝加热，但较大的掺杂剂具有并联一对同心加热器丝，以提供最可靠，最有效的源加热和响应能力。

由于单芯MBE系统的掺杂源的尺寸很小，因此该源可以在带有气输入管的单个安装法兰上组合，从而扩展了单个源端口中可用的掺杂剂范围。源丝加热的气体入口旨在用于不需要热裂缝（例如CBR4）的气体。其他自定义配置包括安装在单个6英寸/12mm法兰或两个1.5cc源上的5CC掺杂源，安装在单个4.5英寸/114毫米法兰上。