Atom-H源

用于高温生产MBE生长所需的原子H


从Veeco原子-H源获得快速、可靠的高温热裂解H2为分子束外延(MBE)的原子H。这种全耐火金属源设计用于1800-2200°C的操作,并与大多数制备和生长室兼容。除了高温MBE外,原子H被证明是理想的低温原位基板清洗和结构过度生长制备。

  • 专门的高温热裂解器,将H2裂解成原子h,用于基体清洗和MBE生长
  • 钨丝加热灯丝内置于气体导电管运行在1800-2200°C
  • 可在2.75″/70mm水冷Cf安装法兰与大多数制备和生长室兼容
  • 非常适合于低温原位基板清洗和准备结构的过度生长
  • 应用包括促进二维GaAs生长,GaN生长速率增强和选择性外延

Veeco原子氢源的裂解效率原子氢已被用于固体源MBE的各种应用,涉及外延和衬底清洗。许多报道的结果都是使用自制裂解源产生的热裂解H2实现的。

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