VEECO掺杂剂源设计用于有效的操作,快速的热响应和出色的通量均匀性。为了通过用于掺杂材料的相对较小的电荷实现良好的均匀性,使用锥形角度的圆锥形PBN坩埚用于确保整个底物压板上的出色通量分布,而无需光束阴影或准直。
该源在大多数掺杂剂材料所需的相对较高的蒸发温度下有效运行,周围MBE生长室没有过多的热负载。虽然小掺杂源用单丝加热,但较大的掺杂剂具有并联一对同心加热器丝,以提供最可靠,最有效的源加热和响应能力。
由于单芯MBE系统的掺杂源的尺寸很小,因此该源可以在带有次级掺杂源或气体入口管的单个安装法兰上组合,从而扩展了单源端口中可用的掺杂剂范围。源细丝加热的气体入口旨在用于不需要热裂缝(例如CBR4)的气体。双重源源具有两个5CC源头,它们用独立的百叶窗彼此热和光学隔离,并安装在单个4.5英寸/114毫米法兰上。