16CM RF离子源


宽,均匀的RF离子源,用于高反应性过程

Veeco提供了一种宽的均匀离子束源,用于反应过程,例如离子束辅助或高度控制的光学涂层的离子束沉积。

  • 支持各种操作范围:50至1500EV和75至700mA
  • 惰性和氧化环境中可靠,均匀的操作
  • 水冷 - 用于低压功率操作
  • 可选的四个网格设计提供非常高的准直
  • 采用业界唯一的丝绒RF中和性,可提供低维护,并实现长生产运行
  • 稳定高效的等离子体操作允许精确控制和高可重复性
  • 适合批量和装载锁定的生产过程

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