12cm rf离子源


专为改进的长期离子束沉积过程生产

提高长不间断的反应过程的性能和质量,如离子束辅助或离子束沉积的高控制光学涂层,具有Veeco 12cm RF离子源。它具有业界唯一的丝绒RF中和性,可提供低维护,并实现长生产运行。12cm的RF离子源是使用100%氩气,氧气或其他反应气体的方法的理想选择。

  • 支持各种操作范围:50至1500EV和50至500mA
  • 惰性和氧化环境中可靠,均匀的操作
  • 水冷 - 低至适度的电力操作
  • 稳定高效的等离子体操作允许精确控制和高可重复性
  • 适合批量和装载锁定的生产过程

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