2月，04,04,2020
新的Lumina™平台专为VCSEL，边缘发光激光器和迷你/微LED的大量制造而设计
Plainview, N.Y., February 4, 2020 - Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO) introduced today the Lumina Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) platform, which incorporates the proprietary TurboDisc® reactor technology for outstanding film uniformity, yield and device performance for a variety of photonics applications. This new MOCVD platform, including the Lumina R480™ and Lumina R480S™ models, will accelerate the production of VCSEL, Edge-Emitting Laser (EEL) and Mini / Micro LED devices.
为了应对砷磷化砷（AS / P）MOCVD技术的强烈消费需求，Lumina平台正在推进新一代高效的光子学装置，包括用于3D感测，自主驾驶和高速数据通信的VCSEL。Lumina平台还专为Mini和Micro LED生产而设计，可用于下一代4K和8K电视，智能手机和可穿戴设备以及用于高级光通信和硅光子应用的鳗鱼设备。
“领先的光子学制造商目前正在看到我们的Lumina MOCVD系统的好处，并正在验证其对大容量光子器件制造的影响，”产品线管理高级副总裁Gerry Blumenstock说。“作为世界上MoCVD设备的领导者，Lumina平台是下一代VCSEL，EEL和MINI / Micro LED设备的答案。凭借其经过验证的设计，技术和性能，Lumina为下一代光子学设备提供了令人兴奋的机会。“
Lumina R480和R480S系统基于Veeco的行业领先的MOCVDTurbodisc®技术，具有出色的均匀性和缺陷，以实现卓越的产量和灵活性。此外，Veeco的专有技术为优异的厚度和组成均匀性驱动均匀的热控制。提供无缝晶片尺寸过渡，该系统能够在直径六英寸的晶片上沉积高质量的高品质AS / P外延层。R480和R480S系统允许用户自定义其系统以获得最大值。
Veeco将于2月4日至2月6日星期二至周四的CA展出旧金山的Photonics West。由Booth号码1456年度，了解有关Veeco的MOCVD和离子束溅射解决方案的光子学应用。
关于Veeco.
Veeco（纳斯达克：Veco）是一家集半导体工艺设备的创新制造商。我们经过验证的离子束，激光退火，光刻，MOCVD和单晶片蚀刻和清洁技术在高级半导体器件的制造和包装中起着积分作用。veeco旨在优化优化性能，产量和所有权成本的设备，在我们所服务的市场中持有领先的技术职位。vwin官方网站要了解有关Veeco的系统和服务产品的更多信息，请访问www.theljp.com。
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