新闻|2020年8月12日
Plainview，N.Y. - Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：Veco）今天宣布IHP微电子，位于德国法兰克福，已选择Veeco的Turbodisc®金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统，用于开发高性能，基于硅基微电子技术。IHP是基于硅的系统，最高频率集成电路和无线和宽带通信技术的专家。
“我们荣幸能够与IHP，一个备受尊重的研究所和德国和欧洲微电子和沟通空间的创新和领导力的推动力，”Veeco的首席技术官Ajit Paranjpe评论道。“他们的TurboDisc平台的选择是验证其特殊的过程功能和帮助实现更改游戏技术的能力。我们期待继续支持IHP，因为他们继续创新和执行他们的使命。“
Veeco的Turbodisc平台是Veeco数十年的复合半导体材料科学领导力的基础。专有技术是当今苛刻的AS / P和GAN应用程序的关键推动因素，对于下一代通信基础设施和高效的微电子设备至关重要。TurboDisc平台由于使用比使用传统批量工具而比快速快50％，因此提供了生产率延长。此外，该平台还包括Veeco的IsoFlange™和SymmHeat™技术，其在整个晶圆上提供均匀的层流函数和均匀的温度曲线，从而提供世界级均匀性和可重复性。
关于Veeco.
Veeco（纳斯达克：Veco）是一家集半导体工艺设备的创新制造商。我们经过验证的离子束，激光退火，光刻，MOCVD和单晶片蚀刻和清洁技术在高级半导体器件的制造和包装中起着积分作用。veeco旨在优化优化性能，产量和所有权成本的设备，在我们所服务的市场中持有领先的技术职位。vwin官方网站了解有关Veeco的系统和服务产品的更多信息，请访问www.theljp.com.。
关于IHP微电子
IHP在基于硅的系统，最高频率集成电路和技术的技术领域进行研发。研究所的研究焦点是对企业相关的问题，导致电信，半导体和汽车行业，航空航天，远程医疗和自动化技术的应用。该研究所已发展成为硅锗技术的国际公认的能力中心。了解更多www.ihp-microelectronics.com.。
在此新闻发布讨论期望或以其他方面发表对未来的陈述的范围内，此类陈述是前瞻性的，受到许多风险和不确定性的影响，可能导致实际结果与所做的陈述有所不同。These factors include the risks discussed in the Business Description and Management’s Discussion and Analysis sections of Veeco’s Annual Report on Form 10-K for the year ended December 31, 2019 and in our subsequent quarterly reports on Form 10-Q, current reports on Form 8-K and press releases. Veeco does not undertake any obligation to update any forward-looking statements to reflect future events or circumstances after the date of such statements.
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