Plainview，N.Y.，11月30日，2020年11月30日（新闻界） -Veeco Instruments Inc.。（纳斯达克：veco）今天宣布Transphorm，Inc。Propel™HVM MOCVD系统用于高批量生产GaN的RF（国防部和商用/ 5G）和电力电子互联网。The Veeco system is an excellent fit for Transphorm’s Epi sales business, and purchased under a US DoD Office of Naval Research (ONR) contract N68335-19-C-0107 from an OUSD (R&E) TAM/MINSEC program to establish a US based dedicated production source of GaN Epitaxy for high performance RF and millimeter-wave electronics. The system was selected for its capability to deliver cutting-edge process at high-throughput and the lowest cost per wafer compared to other MOCVD systems.
“处于提供效率和高功率密度的GaN的电力和5G设备的最前沿，需要世界级的制造解决方案，该解决方案能够缩放批量生产，同时提供不断创新的灵活性，”Umesh Mishra，PH表示。D.，首席技术官和近听的联合创始人。“Veeco的Propel HVM系统是独特的，合格才能做到这一点。多滤器，单晶片技术，以低拥有成本提供灵活性和卓越的吞吐量。“
Propel系统是在Veeco数十年的复合半导体材料科学领先地位的基础上设计的。该系统是当今苛刻的GaN应用程序的关键推动因素，适用于下一代通信基础设施和高效功率设备至关重要。Propel System的单晶圆电抗器平台可以在迷你批处理模式下处理六个和八英寸晶片或两到四英寸晶片。由于使用传统批量工具时，由于更快的配方能力，它会加快生产率延长。除Veeco的专有TurboDisc®技术外，该系统还包括Veeco的ISOflange™和Symmheat™技术，可在整个晶圆上提供均匀的层流式流动和均匀的温度曲线，从而提供世界级均匀性和可重复性。
“我们很自豪能够在甘革命中由先锋和公认的世界领导者选择我们的MOCVD技术，”Veeco的首席技术官员评论了Ajit Paranjpe，Ph.D.“Transphorm决定采用我们的大批量MoCVD技术，证明了系统均匀性，吞吐量，重复性和批量技术的所有权优势成本。我们感谢与李麦卡锡博士的合作，梅什米什拉博士，近史博士在他们的技术评估过程中，最终导致了他们有价值的HVM平台的选择。“
关于Veeco.
Veeco（纳斯达克：Veco）是一家集半导体工艺设备的创新制造商。我们经过验证的离子束，激光退火，光刻，MOCVD和单晶片蚀刻和清洁技术在高级半导体器件的制造和包装中起着积分作用。veeco旨在优化优化性能，产量和所有权成本的设备，在我们所服务的市场中持有领先的技术职位。vwin官方网站了解有关Veeco的系统和服务产品的更多信息，请访问www.theljp.com.。
关于Transphorm，Inc。
Transphorm，Inc。（OTCQB：TGAN）GAN革命的全球领导者，设计和制造最高性能，最高可靠性高压GaN半导体，用于高压电力转换应用。历史频体举办最大的电源GaN IP投资组合之一，生产该行业的第一个JEDEC和AEC-Q101合格的GAN FET。其垂直集成的设备业务模式允许在每个开发阶段创新：设计，制造，设备和应用支持。了解更多www.transphormusa.com.。
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资料来源：Veeco Instruments Inc.