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Aledia选择了Veeco的300mm MOCVD平台,用于微型和高级显示应用

2020年10月20日
Propel™平台首次300mm系统,其EFEM设计用于高级显示应用程序

纽约州Plainview,2020年10月20日(Globe Newswire) -Veeco Instruments Inc。(纳斯达克股票代码:veco)今天宣布阿雷迪亚,下一代高级显示应用程序的开发人员和制造商已选择Veeco的Propel 300 HVM金属有机化学蒸气沉积(MOCVD)系统用于高分辨率微胶片显示器。根据Aledia的说法,该系统具有半符合式设备前端模块(EFEM)具有盒式磁带自动化的前端模块(EFEM),因此由于其最高生产率和与替代方案相比最低的赤字性,因此选择了磁带到胶带自动化。

Aledia的COO弗朗西斯·塔罗尼(Francis Taroni)表示:“智能手表,移动设备,AR/VR应用程序和大型电视的亮度,对比度,开关速度和功率效率正在推动对微胶质解决方案的需求增加。”“作为我们记录的流程工具,我们相信Veeco的Propel 300 HVM平台在实现全球最高批量产量的同时提供了出色的流程收益率。他们支持我们创新的历史是我们选择的推动力。”

由于有可能获得更高的分辨率,亮度和可靠性,因此Microleds正在成为下一代展示技术。根据2020年Trendforce估计,预计微胶质晶圆产量将从2021年的74,000晶片增加到2024年的500万瓦夫。

Veeco首席营销官Scott Kroeger评论说:“我们很荣幸被高级展示技术的真正先驱Aledia再次选拔,以提供该行业的第一个300mm MOCVD工具,以支持其微型生产坡道。”“ Veeco致力于将复合半导体专业知识与半导体规模的制造相结合,在这个具有EFEM的300mm晶圆平台中很明显。它嵌入了我们的DNA中,与Aledia这样的领先公司紧密合作,以开发正确的生产规模解决方案,我们专注于带来我们独特的能力,以帮助实现Microled Manufacturing的未来。”

Veeco的单个晶圆Propel 300 HVM GAN MOCVD系统被设计为一种独特的高量制造单晶片反应堆群集系统,用于基于GAN的高级显示器,电源,RF,RF和Photonics设备。具有单磁力反应堆平台,能够在300mm晶圆上生产一流的高质量外观膜性能,以实现出色的均匀性,可重复性和产量。Propel 300 HVM系统可与模块化集群室配置,以最大程度的生产率和灵活性。

关于Veeco
Veeco(NASDAQ:VECO)是半导体工艺设备的创新制造商。我们经过验证的离子光束,激光退火,光刻,MOCVD和单晶片蚀刻和清洁技术在高级半导体设备的制造和包装中起着不可或缺的作用。凭借旨在优化性能,产量和拥有成本的设备,Veeco在我们服务的市场中占据领先的技术职位。vwin官方网站要了解有关Veeco的系统和服务产品的更多信息,请访问www.theljp.com

关于Aledia
总部位于法国的Aledia成立于2011年,它根据其专有的GAN纳米线开发微芯片,以动力一系列新的显示应用程序。它的平台基于使用CMOS晶圆制作过程和工具基于200和300毫米硅晶片。了解更多信息http://www.aledia.com/en/

在本新闻发布讨论期望或以其他方式发表有关未来的陈述的范围内,此类陈述是前瞻性的,并且会受到许多风险和不确定性的影响,这些风险可能导致实际结果与所做的陈述实质性差异。这些因素包括业务描述和管理层的讨论和分析部分中VEECO的年度报告中有关表格​​10-K的年度报告的风险,以及我们随后关于表格10-Q表格的季度报告,有关表格8的当前报告-K和新闻稿。VEECO不承担任何义务更新任何前瞻性陈述,以反映此类陈述之日之后的未来事件或情况。

VEECO联系人
投资者: Anthony Bencivenga |(516)252-1438 |abencivenga@veeco.com
媒体: 凯文·朗|(516)714-3978 |klong@veeco.com


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资料来源:Veeco Instruments Inc.

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类别: 新闻发布
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