欧洲领先的超发光二极管开发商选择Veeco推进GaN MOCVD平台

欧洲领先的超发光二极管开发商选择Veeco推进GaN MOCVD平台

产品新闻| 2018年1月29日

Veeco仪器公司(纳斯达克代码:VECO)今天宣布,EXALOS已经订购了一套推进®GaN金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统,用于高性能宽带超发光二极管(SLEDs)的研究和开发。总部位于瑞士的EXALOS公司预计将在2018年第三季度收到这套推进系统。

EXALOS首席执行官Christian Velez表示:“Veeco的推进平台具有独特的资质,可以提供最强大的工艺灵活性和最佳的结果,同时保持最低的拥有成本。”“这个平台的加入将使我们的创新和成功达到新的水平。”

超发光led是一种半导体器件,通过电流注入以高度定向的光束发射宽带光。SLEDs是led和半导体激光二极管的混合物,前者从表面向所有方向发射宽带光,后者从具有明确的激光束的波导发射窄带光。sled用于医疗和工业成像、运动控制探测器、导航、光学传感和计量应用。

Veeco MOCVD运营高级副总裁兼总经理Peo Hansson博士表示:“EXALOS拥有超过40万套雪橇设备的出货量和强大的技术专长,是该领域公认的领导者。”“我们期待与他们密切合作,因为我们的推进平台的能力,服务于广泛的专业应用,补充他们的技术和先进的产品路线图。”

Veeco的推进GaN MOCVD系统旨在提供广泛的工艺窗口和灵活的配置,从而处理从功率/射频到先进的led(包括微led、激光二极管、uvled和SLEDs)等广泛的GaN应用。该系统在单片模式下处理6英寸和8英寸晶圆,以及在小批量模式下处理2至4英寸晶圆方面非常通用。推进反应器基于Veeco的TurboDisc®技术,包括新的IsoFlange™和SymmHeat™突破性技术,在整个晶圆上提供均匀的层流和均匀的温度分布。

访问我们的:

2018年SPIE光子学西展于1月29日在旧金山莫斯康尼中心开幕

  • Veeco在241展位展出
  • EXALOS在1941展台展出
  • Veeco将于1月30日(星期二)下午5点在旧金山万豪侯爵酒店举办技术研讨会
  • Veeco公司的首席研究科学家Sandeep Kohli将于1月30日下午6点在Moscone中心举行的宣传会上介绍用于激光刻面的低缺陷离子束沉积(IBD)光学涂层

关于Veeco

Veeco(纳斯达克代码:VECO)是一家领先的创新半导体工艺设备制造商。我们经过验证的MOCVD、光刻、激光退火、离子束和单片蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示器的led以及先进半导体器件的制造中发挥着不可或缺的作用。Veeco的设备设计旨在最大化性能、产量和拥有成本,在所有这些服务市场保持技术领先地位。vwin官方网站欲了解更多Veeco的创新设备和服务,请访问www.theljp.com。

关于EXALOS

EXALOS AG是ISO 9001:2015认证的公司,正在开发和销售波长vw德赢手机客户端从750 nm到1700 nm的近红外SLEDs和扫描源,用于生物医学成像、光纤陀螺仪、测试设备和传感器行业,以及波长从405 nm到680 nm的可见SLEDs和激光二极管,用于新型显示、机器视觉、广域照明等应用。EXALOS总部位于瑞士Schlieren。更多信息请访问www.exalos.com。

就本新闻稿讨论预期或以其他方式对未来作出的声明而言,这些声明是前瞻性的,并受到许多风险和不确定性的影响,这些风险和不确定性可能导致实际结果与所作的声明存在重大差异。这些因素包括Veeco截止2016年12月31日年度10-K表格年度报告中的业务描述和管理讨论和分析部分中讨论的风险,以及我们后续的10-Q表格季度报告、8-K表格当前报告和新闻稿中讨论的风险。Veeco不承担更新任何前瞻性陈述以反映该等陈述日期之后的未来事件或情况的任何义务。

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媒体:杰弗里·皮纳| 516-677-0200 x1222 | jpina@veeco.com

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