领先的3D LED制造商将Veeco的TurboDisc®技术引用作为关键决策因素
Plainview，N.Y.那
2018年6月13日（Globe Newswire） -
Veeco Instruments Inc.。（纳斯达克：Veco）今天宣布aledia，基于其氮化镓 - 纳米线对硅平台的显示应用的下一代3D LED的开发人员和制造商已经选择了Veeco推进®GaN MOCVD系统支持先进的研发。Aledia注意到该工具的大型流程窗口，单晶圆反应器技术和缺陷稳定性，作为采用Propel系统决定的关键因素。
“我们认为，在大面积硅的突破纳米线展示技术的机会非常大，我们需要最好，最可扩展的技术可用于支持我们在3D显示应用周围的持续研发 - 我们相信Veeco最好的位置，“说明
Giorgio Anania.，阿利亚董事长和联合创始人首席执行官。“Veeco的尖端推进系统提供无与伦比的结果，并且在整个晶圆中提供非常好的同质性，使其成为我们所知道的最佳选择，我们将帮助我们继续推动创新的极限。”
Designed for leading-edge GaN applications like power, RF, laser diodes and advanced LEDs, the Propel system’s single-wafer reactor platform enables the processing of six- and eight-inch wafers or two- to four-inch wafers in a mini-batch mode. In addition to Veeco’s proprietary TurboDisc technology, the system also includes Veeco’s IsoFlange™ and SymmHeat™ technologies, which provide homogeneous laminar flow and uniform temperature profile across the entire wafer.
“在公司以前采用Veeco的K465i™Mvw德赢手机客户端OCVD系统的脚跟上，Aledia的决定再次转向Veeco以支持未来几代人为移动展示的LED技术，是我们对卓越共同承诺的证明，”注意到了
PEO Hansson.韦科斯高级副总裁兼韦科高级副总裁兼总经理博士学位。“我们期待着我们的持续伙伴关系，并支持阿利亚，因为它继续在LED空间中创新新发现。”
展示技术的创新者专注于下一个大型技术班次，如微观LED和3D LED。行业分析师预测了一个场景，在2025年之前可能达到3.3亿台的市场。通过亚100微米LED的承诺来推动这种乐观，这被认为是实现最终显示器的关键推动者。
关于Veeco.
Veeco（纳斯达克：Veco）是一家创新半导体工艺设备的领先制造商。我们经过验证的MOCVD，光刻，激光退火，离子束和单晶片蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示器的LED方面以及高级半导体器件的制造中起作用的积分作用。凭借旨在最大限度地提高业绩，产量和所有权成本的设备，Veeco在所有这些送达市场中占据了技术领导职位。vwin官方网站了解有关Veeco的创新设备和服务，请访问www.theljp.com.。
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Veeco Instruments Inc.