Plainview，NY- （MarketWired） -
12/07/17-
Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：veco）提供以下关于其两项专利侵权诉讼的更新：
Veeco vs sgl碳
在
2017年4月12日，Veeco提起了专利侵权投诉
美国东区地区法院纽约（“埃德尼”）反对
Sgl Carbon，LLC和
SGL碳SE（集体，“SGL”），涉及侵犯与金属有机化学气相沉积（“MOCVD”）设备的晶圆载体技术有关的专利。投诉指称，SGL侵犯Veeco的专利，通过制作和销售某些晶圆载体到Veeco的竞争对手，
先进的微制造设备，Inc。（“amec”）。
在
2017年11月2日，EDNY授予Veeco的动作，禁止使用Veeco的专利技术的运输晶圆载体的初步禁令的动作，而没有Veeco的快速授权。在
2017年11月16日，Edny拒绝了SGL的动议，暂停禁止SGL销售玻璃套载体的初步禁令，以便在AMEC制造的MOCVD系统中使用。SGL提交了一项议案，要求法院暂停或“留下”，初步禁令等待诉讼到
美国上诉法院联邦赛道（“CAFC”）。
法院的命令意味着禁止使用Veeco专利技术的运输晶圆载体的初步禁令将在SGL上诉期间仍然存在。CAFC上的上诉过程通常需要一年时间才能完成。在其上诉中，SGL将承担说服CAFC初步禁令应该被推翻的负担。促进禁令的上诉由CAFC根据高度宣传的“滥用”审查标准评估。因此，Veeco认为，CAFC不太可能推翻初步禁令，特别是根据统计数据，表明CAFC对上诉肯定了大多数初步禁令。此外，Veeco交叉上诉，寻求扩大初步禁令的范围。
与此同时，韦科在艾德内科的专利侵权行动正在进行试验。在这一行动中，Veeco正在寻求审判后的永久禁令，货币损害赔偿和其他救济。
amec vs veeco
在
2017年7月13日，AMEC提起了专利侵权投诉
Veeco乐器上海有限公司（“veeco上海”）与
福建高等法院在
中国据称Veeco的MOCVD系统侵犯了与化学气相沉积反应器中的同步运动接合机制有关的中国实用新型专利，并寻求禁令缓解和货币损害。Veeco Shanghai向中国专利再审委员会（“PRB”）提起了本专利的申请。
福建高等法院暂停侵权案例，禁止上海，等待PRB的无效的结果。在
2017年11月24日，PRB在无效诉讼程序中发布了裁决，该专利申请了该专利。在进行中，AMEC投降了其最广泛的独立索赔，从而大大缩小了该专利的范围。
在
2017年12月7日，不向Veeco通知，没有听到Veeco对涉嫌侵权的立场，
福建高等法院发出裁决，适用于
中国这需要Veeco Shanghai停止进口，制作，销售和提供销售Veeco Epik 700 Mod MoCVD系统，该系统包含被指控的侵权式同步运动接合机制由Amec Utility Model专利ZL 201220056049.5和用作EPIK 700 MOCVD的用品的晶圆载体系统。
虽然Veeco仍在评估裁决，但Veeco指出：
- 该裁决仅适用于
中国。
- 该裁决不适用于以前向客户发货的EPIK 700 MOCVD系统
中国。
- Veeco将继续使用并支持其已安装的EPIK 700 MOCVD系统基础（同时遵守裁决）。
- 通过具体的条款，裁决不包括Veeco的EPIK 868 MOCVD系统。
- Veeco正在研究潜在的替代设计，这些设计不被裁决涵盖或由amec主张的实用新型专利。
“Veeco继续相信这种诉讼没有价值，”说
John R. Peeler.Veeco的主席和首席执行官。“我们计划上诉这一裁决，大力捍卫此事并实施维护的知识产权。Veeco仍致力于其客户
中国并支持其安装的MOCVD系统基础。“
关于Veeco.
Veeco.（纳斯达克：veco）是创新半导体工艺设备的领先制造商。我们经过验证的MOCVD，光刻，激光退火，离子束和单晶片蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示器的LED方面以及高级半导体器件的制造中起作用的积分作用。凭借旨在最大限度地提高业绩，产量和所有权成本的设备，Veeco在所有这些送达市场中占据了技术领导职位。vwin官方网站了解有关Veeco的创新设备和服务，请访问www.theljp.com.。
前瞻性陈述
在此新闻发布讨论期望或以其他方面发表对未来的陈述的范围内，此类陈述是前瞻性的，受到许多风险和不确定性的影响，可能导致实际结果与所做的陈述有所不同。这些因素包括商家描述和管理层讨论的风险，Veeco于截至年度10-K表格的年度报告的讨论和分析部分
2016年12月31日在我们随后的季度报告表格10-Q，目前关于表格8-K和新闻稿的报告。Veeco不承担更新任何前瞻性陈述以在此类陈述之后反映未来事件或情况的任何义务。
Veeco Instruments Inc.
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资源：
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