卢教授说:“随着GENxplor的发展，Veeco已经成为公认的创新MBE研发技术的领导者。”GENxplor系统的开放式结构设计和先进技术是南京大学固态微结构国家实验室和工程与应用科学学院研究设施的一个受欢迎的补充。我们很自豪能接受中国首个系统。”
GENxplor系统在直径可达3″的衬底上沉积高质量的外延层，并用于各种各样的应用，如开发高速晶体管，用于材料加工的光纤激光器和无线技术。其高效的单框架设计将所有真空硬件与机载电子设备相结合，使其比其他MBE系统小40%，节省了宝贵的实验室空间。
Veeco公司MBE运营副总裁Gerry Blumenstock说:“自从GENxplor问世以来，它已经使世界各地顶尖大学和机构的基本半导体研究成为可能。“南京大学和陆博士的认可坚定地巩固了GENxplor作为业内领先的研发MBE系统。在2013年中国MBE大会上推出该系统后，我们很高兴南京大学，一所领先的材料科学和凝聚态物理研究大学，成为中国第一个安装GENxplor的客户。”
关于Veeco
Veeco的工艺设备解决方案使led、显示器、电力电子、复合半导体、硬盘驱动器、半导体、MEMS和无线芯片的制造成为可能。我们在MOCVD, MBE，离子束，湿法蚀刻单片加工等先进薄膜工艺技术上处于领先地位。我们的高性能系统推动了能源效率、消费电子产品和网络存储方面的创新，使我们的客户能够最大限度地提高生产力，并实现更低的拥有成本。有关我们公司、产品、全球服务和支持的信息，请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com。
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