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VEECO宣布减少ALD技术投资,并指导2016年第三季度的收入至高端指导范围

2016年10月5日

Plainview,纽约- (市场有线) - 10/05/16- -

  • 大大降低了原子层沉积(“ ALD”)技术开发的未来投资
  • 预计ALD成本降低,每年节省大约 1000万美元
  • 期望记录两者之间的税前费用 56美元和6200万美元在2016年第三季度,其中绝大多数是非现金损伤费用
  • 预计2016年第三季度收入将处于先前宣布的指导范围的高端 7000万至8500万美元

Veeco Instruments Inc.(纳斯达克股票代码:VECO)今天宣布了额外的降低成本计划,决定大大减少其原子层沉积(“ ALD”)技术开发的未来投资。该行动反映了公司持续的重点是平衡技术投资与相关收入vw德赢手机客户端实现的潜力。

预计ALD成本降低活动将在2016年截止日期之前完成,并且是先前宣布的重组计划的补充 2000万美元在年度储蓄中。总的来说,这些举措将产生 3000万美元在年度储蓄中。

“尽管我们继续为高级半导体应用程序的ALD技术开发取得进展,但预期的收入实现时机已经延迟。” 约翰·R·皮勒(John R. Peeler)董事长兼首席执行官。“因此,我们做出了艰难的决定,以降低对ALD计划的投资。我们计划保留知识产权和技术能力,并继续评估未来的市场机会。”

在第三季度,该公司预计将记录资产的总损伤和重组费用vw德赢手机客户端 56美元和6200万美元, 或者 $ 1.44 $ 1.59以每股为基础。在这些指控中,绝大多数是与无形的ALD资产障碍有关的非现金,而大约 200万美元是现金重组费用。

2016年第三季度收入更新

总体领导行业条件和对我们产品的需求继续改善。结果,预计2016年第三季度的收入将处于先前宣布的指导范围的高端 7000万至8500万美元

VEECO计划在2016年第三季度发布财务业绩,并举办电话会议,以进一步详细讨论这些结果 2016年11月1日

关于Veeco

VEECO的工艺设备解决方案可以制造LED,显示器,电源电子设备,复合半导体,硬盘驱动器,半导体,MEMS和无线芯片。我们是MOCVD,MBE,离子束,湿蚀刻单晶片加工和其他先进的薄膜过程技术的领导者。我们的高性能系统推动了能源效率,消费电子和网络存储方面的创新,使我们的客户能够最大程度地提高生产率并实现较低的所有权。有关我们公司,产品和全球服务和支持的信息,请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com

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VEECO联系人:

投资者:
                    Shanye Hudson516-677-0200 X1472shudson@veeco.com

媒体:
                    杰弗里·皮纳(Jeffrey Pina)516-677-0200 X1222jpina@veeco.com

来源: Veeco Instruments Inc.

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类别: 新闻发布
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