Veeco的单个晶圆MOCVD系统用于加快gan外延改进
Plainview，纽约- （（（
市场有线） -
02/16/16- -
Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：veco），全球领先的金属有机化学蒸气沉积（MOCVD）系统的供应商今天宣布已与IMEC签署了一项联合开发项目（JDP）协议
比利时基于基于纳米电子研究中心。预计该协作将加速使用使用VEECO的Propel®PowerGANMOCVD系统创建的GAN EPI WAFERS的高效，氮化壳（GAN）的电力电子设备的开发。
IMEC已经在VEECO的Propel系统中显示出GAN层均匀性和运行重复性的显着增长，从而显着提高了动力设备的产量。单晶片反应堆结合了Veeco的专有TurboDisc®技术，该技术提供了与批处理反应堆相比，提供出色的薄膜均匀性，运行对控制和缺陷水平。
Rudi Cartuyvels说：“在过去四年中，Veeco和IMEC在我们的Gan-on-Si工业隶属计划的框架内进行了合作，以提高存放在硅晶体质体上的GAN层的EPI质量。”和
能源技术在IMEC。“最终目标是生产下一代高效的电源开关设备。我们为2016年设定了非常高的GAN设备收益率和可靠性目标，我们期待与VEECO合作以实现这些目标。”
根据IHS研究，行业需求正在增长，并且需要更小，更节能的能力IC。反过来，这推动了使用高级材料改进电源设备的需求。GAN-ON-SI加上改进的工艺解决方案（例如单滤器GAN MOCVD）对于这些改进的功率设备的开发至关重要。
“我们对IMEC合作感到非常满意，”说
吉姆·詹森VEECO MOCVD运营高级副总裁兼总经理。“全球对具有更高能源效率的先进电力电子产品的需求，较小的外形和更大的可靠性正在迅速加速。我们认为，我们的Propel单晶片系统中的技术将使IMEC能够实现其动力设备目标，并有助于带来这些高级设备更快地销售。”
关于VEECO推进功率GAN单滤器反应堆MOCVD系统
Veeco的新推进电源GAN MOCVD系统专为电力电子行业设计。该系统具有一个能够处理六英寸和八英寸晶片的单晶石200mm反应堆平台，该系统为生产高效的电源电子设备的高质量gan膜沉积。单晶片反应堆基于Veeco的TurboDisc®技术，包括新的Isoflange™和SymmHeat™突破性技术，这些技术提供了整个晶圆的均匀层流和均匀的温度曲线。客户可以轻松地将流程从VEECO K465I™和MaxBright®系统传输到Propel Power GAN MOCVD平台。
关于Veeco
VEECO的工艺设备解决方案可以制造LED，显示器，电源电子设备，复合半导体，硬盘驱动器，半导体，MEMS和无线芯片。我们是MOCVD，MBE，离子束，湿蚀刻单晶片加工和其他先进的薄膜过程技术的领导者。我们的高性能系统推动了能源效率，消费电子和网络存储方面的创新，使我们的客户能够最大程度地提高生产率并实现较低的所有权。有关我们公司，产品和全球服务和支持的信息，请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com。
在本新闻发布讨论期望或以其他方式发表有关未来的陈述的范围内，此类陈述是前瞻性的，并且会受到许多风险和不确定性的影响，这些风险可能导致实际结果与所做的陈述实质性差异。这些因素包括业务描述中讨论的风险以及管理层的讨论和分析部分关于VEECO年度报告的年度报告，该表格为年度10-K的年度报告
2014年12月31日在我们随后关于表格10-Q表格的季度报告中，有关8-K表格和新闻稿的当前报告。VEECO不承担任何义务更新任何前瞻性陈述，以反映此类陈述之日之后的未来事件或情况。
Veeco的Propel®PowerGAN MOCVD系统用于使用GAN EPI WAFERS生产高效，基于GAN的电力电子设备。
Veeco的Propel®PowerGan MOCVD系统的单晶片反应堆结合了专有的TurboDisc®技术，该技术可提供较高的膜均匀性，与批处理反应器相比，运行到运行的控制和缺陷水平。
VEECO联系人：
投资者：
Shanye Hudson
516-677-0200 X1272
shudson@veeco.com
媒体：
杰弗里·皮纳（Jeffrey Pina）
516-677-0200 X1222
jpina@veeco.com
来源：
Veeco Instruments Inc.