Plainview，N.Y.- （商业资讯） -
Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：veco）今天宣布它已经发布了第50个Turbodisc®Epik™700 GaN金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统反应堆，因为它在十个月前推出。
发射后
2014年9月此外，屡获殊荣的EPIK 700 MOCVD系统现已安装，合格，在世界各地的几个关键地区的MODURLOWER LED制造商处接受。根据最近的客户反馈，Turbodisc EPIK 700 MOCVD系统已经提供了升高的LED晶圆生产，并在节省时间和金钱的系统之间易于均匀的均匀性和简单的过程转移。
“Veeco的EPIK 700系统旨在通过将LED行业的最低拥有成本与最具技术先进的反应堆相结合，旨在促进一般照明的加速，”
约翰削皮器，Veeco主席和首席执行官。“这些创新允许EPIK 700客户更好地满足现有和新兴应用中的固态照明需求，特别是在一般照明领域。”
EPIK 700是Veeco在技术先进的MOCVD反应堆的杰出线路中的最新系统。自2010年推出Turbodisc K465i™GaN MOCVD系统以来，Veeco已稳步增加其市场份额成为MoCVD薄膜工艺设备的全球领导者。2011年，Veeco推出了该行业的第一个多响电器MOCVD系统，屡获殊荣的TurboDisc Maxbright™GaN多电抗器MOCVD系统。
“EPIK 700系统采用先进的TurboDisc反应器设计，具有veeco的K465i反应堆的两倍以上，这转化为较高的吞吐量效率以节省昂贵的Fab楼层空间，”
吉姆·詹森，高级副总裁兼总经理Veeco Mocvd。“50个EPIK 700反应堆相当于100多个Veeco K465i MoCVD反应堆。这种增加的容量，改善了晶圆均匀性和减少的运营费用，使LED客户能够在以前的MOCVD系统中达到20％至40％的晶圆节省的成本。“
3月份，EPIK 700 GAN MOCVD系统赢得了2015年复合半导体行业的创新奖，以便同行投票的创新，以获得其对复合半导体行业的创新和游戏变化的贡献。Veeco在四年内赢得了这一奖项，以便在四年内完成技术突破。
关于Veeco.
Veeco的过程设备解决方案使得LED，柔性OLED显示屏，电力电子设备，复合半导体，硬盘驱动器，半导体，MEMS和无线芯片制造。我们是MOCVD，MBE，离子束，湿蚀刻单晶片加工等先进薄膜工艺技术的领导者。我们的高性能系统推动了能源效率，消费电子和网络存储的创新，并让我们的客户最大限度地提高了生产率并实现了更低的所有权成本。有关我们公司，产品和全球服务和支持的信息，请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com.。
在此新闻发布讨论期望或以其他方面发表对未来的陈述的范围内，此类陈述是前瞻性的，受到许多风险和不确定性的影响，可能导致实际结果与所做的陈述有所不同。这些因素包括商家描述和管理层讨论的风险，Veeco于截至年度10-K表格的年度报告的讨论和分析部分
2014年12月31日在我们随后的季度报告表格10-Q，目前关于表格8-K和新闻稿的报告。Veeco不承担更新任何前瞻性陈述以在此类陈述之后反映未来事件或情况的任何义务。
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资源：
Veeco Instruments Inc.