新推进电源GAN MOCVD系统预计将加速从研发到生产的过渡
GAN Power Electronics
纽约州普莱恩维尤- （商业资讯） -
Veeco Instruments Inc.（NASDAQ：VECO）今天介绍PROPEL™氮化碳（GAN）金属有机化学蒸气沉积（MOCVD）系统，它结合了单滤器反应堆技术，以实现出色的薄膜均匀性，产量和设备性能。这项新的200mm MOCVD系统和技术可以开发高效的基于GAN的电力电子设备，该设备将加速该行业从研发到大量生产的过渡。
Veeco的新推动力GAN MOCVD系统可以开发高效的基于GAN的电力电子设备，该设备将加速该行业从研发到大量生产的过渡。（图片来源：商业资讯）
为了响应强劲的消费者对电力电子设备的需求，氮化碳MOCVD正在推进新一代的电动开关设备，这些设备具有更高的效率，较小的外形效果和较低的设备重量。根据
IHS研究，由于新设备应用于消费电子，太阳能和风能，电源，汽车和其他应用，因此从2014年到2020年，GAN电力电子市场预计将以超过90％的复合年增长率增长。
“领先的电力电子制造商目前正在从研发到试点生产，开发和合格的新型设备结构，重点是提高可靠性，收益率和成本。”
威廉·J·米勒（William J. Miller），博士，VEECO执行副总裁。“作为全球GAN MOCVD设备的领导者，Propel系统是下一代电力电子设备的答案。”米勒补充说：“ Propel凭借其出色的设计，技术和性能，是一个平台，将为我们的客户和Veeco提供令人兴奋的未来增长机会。”
Propel MOCVD系统基于VEECO行业领先的MOCVDTurboDisc®技术，并具有长期的广告系列和低粒子缺陷，具有出色的收率和灵活性。此外，专有的对称™技术驱动均匀的热控制，以实现出色的厚度和组成均匀性。该系统提供无缝的晶圆尺寸过渡，将高质量的gan外延层沉积在直径六英寸和八英寸的硅晶片上。
“电力电子行业领导者进行的Beta测试表明，Propel系统非常适合以出色的粒子性能进行快速学习。”
吉姆·詹森VEECO MOCVD的高级副总裁兼总经理。“这种验证对客户来说是个好消息，因为他们致力于为产品路线图开发创新的流程和技术。正如我们在LED行业中所展示的那样，Veeco的目标是帮助电力电子产品客户提高设备效率，降低制造成本，并最终进入大批量制造。”
关于VEECO推进功率GAN单滤器反应堆MOCVD系统
VEECO的新推动力GAN MOCVD系统专为电力电子行业设计。该系统具有一个能够处理六英寸和八英寸晶片的单晶石200mm反应堆平台，该系统为生产高效的电源电子设备的高质量gan膜沉积。单晶片反应堆基于Veeco领先的TurboDisc®设计，其突破性技术，包括新的Isoflange™和Symmheat™技术，这些技术提供了整个晶圆的均匀层流和均匀温度曲线。客户可以轻松地将流程从VEECO K465i和Maxbright Systems传输到Propel Power Gan MOCVD平台。
关于Veeco
Veeco的工艺设备解决方案可以制造LED，灵活的OLED显示器，太阳能电池，电源电子，硬盘驱动器，MEMS和无线芯片。我们是LED，MBE，离子光束和其他先进的薄膜过程技术的市场领导者。我们的高性能系统推动了能源效率，消费电子和网络存储方面的创新，使我们的客户能够最大程度地提高生产率并实现较低的所有权。有关我们公司，产品和全球服务和支持的信息，请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com。
在本新闻发布讨论期望或以其他方式发表有关未来的陈述的范围内，此类陈述是前瞻性的，并且会受到许多风险和不确定性的影响，这些风险可能导致实际结果与所做的陈述实质性差异。这些因素包括业务描述中讨论的风险以及管理层的讨论和分析部分关于VEECO年度报告的年度报告，该表格为年度10-K的年度报告
2013年12月31日在我们随后关于表格10-Q的季度报告中，有关8-K和新闻稿的当前报告。VEECO不承担任何义务更新任何前瞻性陈述，以反映此类陈述之日之后的未来事件或情况。
照片/多媒体画廊可用：http://www.businesswire.com/multimedia/home/20141120005270/en/
来源：
Veeco Instruments Inc.